[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1、一种基板处理装置，利用从处理液供给机构供给的处理液，对以规定的角度倾斜并沿与该倾斜方向交叉的方向传送的基板的上表面进行处理，其特征在于，

所述处理液供给机构具备：

容器主体，沿着所述基板的倾斜方向配置，将所述处理液供给储存在内部中；

流出部，开口形成在该容器主体的下面，将供给储存在容器主体内的处理液沿着与所述基板的传送方向交叉的方向以直线状流出；

导引构件，设在所述容器主体的下面侧，具有朝向所述基板的传送方向下游侧、较低地倾斜的倾斜面，并且该倾斜面的下端缘倾斜地形成为与被传送的所述基板的倾斜的上表面平行地离开对置，用所述倾斜面承接从所述流出部流出的处理液，并从该倾斜面的下端缘供给到所述基板的上表面。

2、如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述导引构件的倾斜面的下端缘相对于所述基板的传送方向正交。

3、如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述容器主体水平地配置，以使被供给储存在内部中的处理液的液面沿着所述基板的倾斜方向成为相同的高度。