[发明专利]基板处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及例如一边传送大型尺寸的液晶显示面板等的基板一边用处理液处理该基板的基板处理装置。

背景技术

在液晶显示面板中使用的玻璃制的基板上形成有电路图案。为了在基板上形成电路图案而采用光刻工艺。光刻工艺如周知那样，在所述基板上涂敷抗蚀剂，隔着形成有电路图案的掩模向该抗蚀剂照射光。

接着，将抗蚀剂的没有被照射光的部分或被照射了光的部分除去，将除去了抗蚀剂的部分进行蚀刻。接着，通过多次重复在蚀刻后从基板除去抗蚀剂的一系列工序，在所述基板上形成电路图案。

在这样的光刻工艺中，需要有在所述基板上通过显影液、蚀刻液或在蚀刻后将抗蚀剂除去的剥离液等的处理液处理基板的工序、再在处理液的处理后利用清洗液清洗的工序。

在利用所述显影液、蚀刻液或剥离液等的处理液处理基板的情况下，为了对基板的整个板面均匀地进行该处理，要求对基板供给处理液时的浸润(预湿)变得均匀。

例如，如果将处理液加压而从喷嘴等喷射，则处理液变为粒状而飞散，所以有时不均匀地附着在基板。即，处理液的预湿未能均匀地进行。其结果，有时利用处理液进行的基板的处理也不能均匀地进行。

所以，如专利文献1所示，将在下端面上形成有缝隙状的流出部的处理液供给装置沿着与传送方向交叉的方向即该基板的宽度方向配置在被传送的基板的上方，通过水位差的压力使对所述处理液供给装置供给的处理液从所述流出部流出，对基板的宽度方向均匀地供给处理液。

但是，最近在液晶显示装置中使用的玻璃制的基板有大型化及薄型化的趋势。因此，如果将基板水平传送，则在对基板供给的处理液的重量作用下基板的挠曲变大，有基板的传送不能平滑地进行的情况。并且，由于是在基板的上表面上残留有大量的处理液的状态下将基板从处理部送出，所以在将处理液回收再利用的情况下，处理液的消耗量变多，成为导致运行成本上升的一个原因。

为了解决这样的问题，最近，如下的技术已实用化，该技术通过使基板以规定的角度倾斜而传送，使供给到基板的板面上的处理液平滑地流出，减少基板的挠曲，或减少与基板一起从处理部带出的处理液的量。

在专利文献2中，示出了如下的技术，即在使基板倾斜而传送的情况下，在其倾斜方向的上端侧沿着基板的传送方向配置喷射用管、将从该喷射用管流出的处理液用液体承接板承接后，从基板的倾斜方向上端侧沿着下端侧流动而处理所述基板的上表面的技术。

专利文献1：日本专利文献特开2006-297274号公报；

专利文献2：日本专利文献特开2004-153033号公报。

如专利文献2所示，在倾斜的基板的倾斜方向的上端侧，沿着基板的传送方向配置喷射用管，如果要将从该管流出的处理液经由液体承接板供给到被倾斜传送的基板的倾斜方向上端侧，则处理液不仅向基板的倾斜方向下方流动，根据基板的传送速度，也相对地在该基板的上表面朝向传送方向上游侧(传送方向的后端侧)流动。

因此，在基板的传送方向的前端部，发生被供给到基板的倾斜方向上端侧的处理液难以流到倾斜方向下方的情况，所以有不能通过处理液将基板的整个上表面均匀地处理的情况。特别是，有时如果为了提高处理效率而加快基板的传送速度，则该趋势会变得显著。

发明内容

本发明的目的是提供一种基板处理装置，该基板处理装置通过使得能够对倾斜传送的基板的上表面的与传送方向交叉的方向将处理液均匀地并且以相同的压力供给，能够均匀地处理基板的整个上表面。

本发明是一种基板处理装置，将沿以规定的角度倾斜并沿与其倾斜方向交叉的方向传送的基板的上表面通过从处理液供给机构供给的处理液处理，其特征在于，

所述处理液供给机构具备：

容器主体，沿着所述基板的倾斜方向配置，将所述处理液供给储存在内部中；

流出部，开口形成在该容器主体的下面上，使被供给储存到形成有到容器主体内的处理液沿着与所述基板的传送方向交叉的方向以直线状流出；

导引部件，设在所述容器主体的下面侧，具有朝向所述基板的传送方向下游侧较低地倾斜的倾斜面，并且该倾斜面的下端缘倾斜地形成，以使其与被传送的所述基板的倾斜的上表面平行地离开对置，通过所述倾斜面承接从所述流出部流出的处理液，从该倾斜面的下端缘供给到所述基板的上表面。

根据本发明，用导引部件承接从容器主体的流出部沿着与被倾斜传送的基板的倾斜方向交叉的方向以直线状流出的处理液。该导引部件朝向基板的传送方向下游侧较低地倾斜，并且下端缘倾斜，以使其与基板的上表面平行地离开对置。