[发明专利]晶圆固着装置及其方法有效
申请号: | 200810096170.9 | 申请日: | 2008-05-09 |
公开(公告)号: | CN101577240A | 公开(公告)日: | 2009-11-11 |
发明(设计)人: | 张介舟;廖洪佐;林学宏;张志安 | 申请(专利权)人: | 旺硅科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 | 代理人: | 张仲波 |
地址: | 中国台湾新*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 固着 装置 及其 方法 | ||
1.一种晶圆固着装置,其特征在于,包含:
一真空源;
一吸附装置,其包含一环状部,在环状部中包含一中空部分,一第一通孔形成于该环状部中,该第一通孔连接至该真空源;以及
一晶圆固定环,其置于该吸附装置上,通过一卡合装置固定该晶圆固定环于该吸附装置上,该晶圆固定环包含一内环、一外环以及一环状基底部,该内环及该外环形成于该环状基底部上,该内环及该外环之间形成一吸附空间,该环状基底部包含一第二通孔,用以连接该第一通孔及该吸附空间。
2.根据权利要求1所述的晶圆固着装置,其特征在于,所述吸附空间包含一空隙。
3.根据权利要求1所述的晶圆固着装置,其特征在于,所述吸附空间包含多个连通孔。
4.根据权利要求1所述的晶圆固着装置,其特征在于,所述晶圆固定环固定一蓝膜于该内环及该外环之上。
5.根据权利要求1所述的晶圆固着装置,其特征在于,所述晶圆固定环的材料包含塑料或金属。
6.根据权利要求1所述的晶圆固着装置,其特征在于,所述内环、外环以及环状基底部一体成型。
7.根据权利要求1所述的晶圆固着装置,其特征在于,所述卡合装置包含:
二卡合件,形成于该吸附装置上;以及
二卡合孔,形成贯穿于该环状基底部,该卡合孔对应该卡合件,以供卡合件插入卡合孔后固定。
8.根据权利要求7所述的晶圆固着装置,其特征在于,所述卡合孔包含一插入部、一移动部以及一固定部。
9.根据权利要求1所述的晶圆固着装置,其特征在于,所述卡合装置包含:
二螺丝;以及
四通孔,该四通孔中的二通孔形成贯穿于该环状基底部,四通孔中的另二通孔形成贯穿于该吸附装置,该环状基底部的二通孔对准并重迭于该吸附装置的二通孔,二螺丝穿设通孔并锁固,用以固定晶圆固定环及吸附装置。
10.根据权利要求1所述的晶圆固着装置,其特征在于,所述晶圆固定环包含一中空部分形成于该内环之中。
11.根据权利要求7所述的晶圆固着装置,其特征在于,所述吸附装置包含一环状部,所述卡合件形成于环状部的上表面上。
12.根据权利要求1所述的晶圆固着装置,其特征在于,所述真空源包含一真空泵。
13.一种晶圆固着方法,其特征在于,包含有以下步骤:
备置一吸附装置,其包含一环状部,在环状部中包含一中空部分,一第一通孔形成于该环状部中,该第一通孔连接至一真空源;
放置一晶圆固定环于该吸附装置之上以通过一卡合装置卡合该晶圆固定环以及该吸附装置,该晶圆固定环包含一内环、一外环以及一环状基底部,该内环及该外环形成于该环状基底部上,该内环及该外环之间形成一吸附空间,该环状基底部包含一第二通孔,用以连接该第一通孔及该吸附空间;
于该晶圆固定环及该吸附装置中形成真空状态;以及
放置黏着有一晶圆的一蓝膜于该晶圆固定环上。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造