[发明专利]处理液再生方法及含于处理液的金属的回收方法

说明书

技术领域

本发明涉及使用内部填充有吸附金属离子的吸附材料的可移式容器，再生由于基板处理而含有金属成分的处理液的方法、及回收由于基板处理而在处理液中含有的金属成分的方法。

背景技术

例如，在制造半导体、(硅)晶片、液晶玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板等各种基板的工序中，有向这些基板供给蚀刻液或显影液、清洗液等各种处理液而处理该基板的工序。

作为使用蚀刻液的处理(蚀刻处理)的一例，可以举出通过如下所述的蚀刻装置实施该蚀刻处理，即：具备贮存蚀刻液的贮存槽、蚀刻基板的基板处理机构、将贮存槽内的蚀刻液向基板处理机构供给，并将供给的蚀刻液从该基板处理机构回收，使蚀刻液在贮存槽和基板处理机构之间循环的蚀刻液循环机构(参照特开2000-96264号公报)。

所述基板处理机构包括：具备闭塞空间的处理腔室、配设于处理腔室内且将基板水平输送的多个输送辊、和配设于处理腔室内且朝向基板的上表面喷出蚀刻液的多个喷嘴体，所述蚀刻液循环机构包括：连接贮存槽和各喷嘴体的供给管、经由供给管向各喷嘴体供给蚀刻液的供给泵、和连接处理腔室的底部和贮存槽的回收管。

根据该蚀刻装置可知，通过输送辊使基板在规定方向上输送，并且，将通过供给泵经由供给管供给于各喷嘴体的贮存槽内的蚀刻液从这些各喷嘴体向基板的上表面喷出，利用所述蚀刻液蚀刻基板。然后，通过回收管，将喷出在基板的上表面的蚀刻液从处理腔室内回收至贮存槽内。

然而，例如，若对形成于基板的上表面的氧化铟锡膜等金属膜进行蚀刻，则构成该金属膜的所谓铟或锡等金属溶解于蚀刻液中，因此，在使蚀刻液在贮存槽和基板处理机构之间循环地构成的上述蚀刻装置中，贮存槽内的含于蚀刻液的金属成分逐渐增加，导致不能有效地实施蚀刻处理的问题、或发生得不到精度良好的蚀刻形状的问题。

从而，在上述蚀刻装置中，不得不定期更换贮存槽内的蚀刻液，由于蚀刻液的更换所花费的费用(更换的蚀刻液的废弃处理费用或更换的蚀刻液的购入费用)而导致处理成本增加。

因此，如特开2005-325082号公报中的记载，提出了使用离子交换树脂从贮存槽内的蚀刻液分离金属成分，将其除去后，再利用该蚀刻液的方法。

【专利文献1】特开2000-96264号公报

【专利文献2】特开2005-325082号公报

然而，上述方法中，仅通过利用离子交换树脂分离蚀刻液中的金属成分、将其除去时，导致没有回收分离的金属成分的问题。有时所述金属膜例如使用铟等非常高价的金属，此时，优选回收溶解于蚀刻液的金属。

另外，进行从蚀刻液分离、除去金属成分的处理需要相应的设备，因此，基板制造人员不能容易地实施。另一方面，在废液处理人员等实施的情况下，也不得不通过油罐车将使用后的蚀刻液从基板制造人员侧向废液处理人员侧输送，并通过油罐车将处理后的废液(能够再利用的蚀刻液)从废液处理人员侧向基板制造人员侧输送，导致输送成本高的问题或不够有效的问题。

另外，进而，在废液处理人员回收溶解于蚀刻液中的金属的情况下，除了上述问题外，由于含于蚀刻液的金属的浓度低，因此，回收该蚀刻液中的金属成分并不容易，导致非常花费劳力的问题。

发明内容

本发明是鉴于以上的实际情况而做成的，其目的在于提供能够以低成本有效除去含于基板处理用处理液的金属成分，并将该处理液再生，对环境保护起到贡献作用的处理液再生方法、及能够以低成本有效回收含于基板处理用处理液的金属成分的含于处理液的金属的回收方法。

为了实现上述目的，本发明涉及，

使用内部填充有吸附金属离子的吸附材料的可移式容器，

在进行基板处理的处理区域、和从该处理区域隔离的区域即再生吸附了处理液中的金属成分的吸附材料的吸附材料再生区域或回收吸附于吸附材料的金属的回收区域之间，输送所述可移式容器而进行的处理液再生方法或含于处理液中的金属的回收方法。