[发明专利]光掩模的检查方法、光掩模的制造方法、电子部件的制造方法、测试掩模及测试掩模组

权利要求书

1.一种光掩模的检查方法，该光掩模为了使在要被蚀刻加工的被加 工层上形成的抗蚀膜成为所述蚀刻加工中的掩模的抗蚀图形，被用来对所 述抗蚀膜进行规定图形的曝光，

该光掩模的检查方法具有下述工序：

使用形成有规定测试图形的测试掩模，对测试用抗蚀膜进行曝光，从 而得到显影后的测试用抗蚀图形的工序；

对所述测试用抗蚀图形、或者以该测试用抗蚀图形为掩模而蚀刻所述 被加工层所得到的测试用被加工层图形进行测量，得到实际曝光测试图形 数据的工序；

以规定的光学条件对所述测试掩模进行光照射，通过摄像装置取得该 测试掩模的光透射图形，根据得到的光透射图形得到光透射测试图形数据 的工序；

对所述实际曝光测试图形数据和所述光透射测试图形数据进行比较 的工序；和

以与所述规定的光学条件相同的或者不同的条件对作为检查对象的 光掩模进行光照射，并通过所述摄像装置得到该检查对象光掩模的光透射 图形的工序；

根据由所述比较工序得到的比较结果和所述检查对象光掩模的光透 射图形，对作为所述检查对象的光掩模进行评价。

2.如权利要求1所述的光掩模的检查方法，其特征在于，

作为检查对象的光掩模的光透射图形的取得所适用的光学条件，是基 于所述比较工序所得到的比较结果来进行设定的。

3.如权利要求1所述的光掩模的检查方法，其特征在于，

所述测试用抗蚀图形，其抗蚀层的厚度具有阶段性或者连续性变化的 部分。

4.如权利要求1所述的光掩模的检查方法，其特征在于，

在通过摄像装置取得所述测试掩模的光透射图形之际，作为规定的光 学条件预先准备有多个条件，且针对各种条件进行取得。

5.如权利要求2所述的光掩模的检查方法，其特征在于，

还包含下述工序，即，在根据所述比较结果设定了光学条件之后，利 用该设定再次对所述测试掩模进行光照射并通过摄像装置取得光透射图 形且得到光透射测试图形数据，再次进行与所述实际曝光测试图形数据的 比较，作为新的比较结果。

6.如权利要求1所述的光掩模的检查方法，其特征在于，

所述光学条件至少包含下述条件之一，即，为了取得所述光透射图形 而使用的物镜系统的数值孔径、照明光学系统的数值孔径对物镜系统的数 值孔径之比、照射光的分光特性以及散焦量。

7.如权利要求1所述的光掩模的检查方法，其特征在于，

形成所述测试用抗蚀图形的材料，是与形成在使用作为所述检查对象 的光掩模的状态下被曝光的抗蚀膜的抗蚀材料相同的材料。

8.如权利要求1所述的光掩模的检查方法，其特征在于，

基于由所述比较工序得到的比较结果，掌握所述实际曝光测试图形数 据和所述光透射测试图形之间的相关关系，根据该相关关系和所述检查对 象光掩模的光透射图形，对作为所述检查对象的光掩模进行评价。

9.如权利要求1所述的光掩模的检查方法，其特征在于，

作为所述检查对象的光掩模具有：使曝光光束透射的透射部、遮挡曝 光光束的遮光部以及使曝光光束的一部分减低并透射的灰色调部。

10.如权利要求1所述的光掩模的检查方法，其特征在于，

在所述测试掩模上形成有包括排列了多个单位图形的部分的测试图 形，

所述多个单位图形基于一定的规律使图形形状逐次变化。

11.如权利要求1所述的光掩模的检查方法，其特征在于，

在所述测试掩模上形成有包括排列了多个单位图形的部分的测试图 形；

所述多个单位图形具有基于一定的规律使图形形状逐次变化的部位。

12.如权利要求10或者11所述的光掩模的检查方法，其特征在于，

基于所述一定的规律的图形形状的逐次变化，是线宽的变化。