[发明专利]LCD基板的制造方法无效
| 申请号： | 200810101546.0 | 申请日： | 2008-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN101526683A | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | 朴云峰 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G03F7/00;C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘 芳 |
| 地址： | 100176北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | lcd 制造 方法 | ||
1.一种LCD基板的制造方法，其特征在于，包括：
步骤10、将掩模板与基板贴合在一起；
步骤20、在完成步骤10的基板上沉积薄膜；
步骤30、在完成步骤20的基板上移开所述掩模板，在所述基板上形成薄膜图形。
2.根据权利要求1所述的LCD基板的制造方法，其特征在于，所述步骤10具体为：将形状和大小与所述基板相同的掩模板紧密压合在所述基板上，通过对位标记使所述掩模板和基板严格对位。
3.根据权利要求1所述的LCD基板的制造方法，其特征在于，所述步骤20具体为：在完成步骤10的基板上以100℃～250℃的沉积温度沉积金属薄膜。
4.根据权利要求1所述的LCD基板的制造方法，其特征在于，所述步骤20具体为：在完成步骤10的基板上以150℃～350℃的沉积温度沉积非金属薄膜。
5.根据权利要求1～4中任一权利要求所述的LCD基板的制造方法，其特征在于，所述掩模板的厚度为5μm～50μm。
6.根据权利要求5所述的LCD基板的制造方法，其特征在于，所述掩模板上图案的边缘具有30°～60°的坡度角。
7.根据权利要求1～4中任一权利要求所述的LCD基板的制造方法，其特征在于，所述掩模板由抗氧化、耐高温、耐腐蚀的材料制成。
8.根据权利要求7所述的LCD基板的制造方法，其特征在于，所述掩模板由人造云母或聚四氟乙烯材料制成。
9.根据权利要求7所述的LCD基板的制造方法，其特征在于，所述掩模板由聚醚酮复合材料或炭纳米管复合材料制成。
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