[发明专利]半透明半反射式液晶显示器阵列基板及其制造方法有效
申请号: | 200810103725.8 | 申请日: | 2008-04-10 |
公开(公告)号: | CN101556414A | 公开(公告)日: | 2009-10-14 |
发明(设计)人: | 董敏 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/84 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 | 代理人: | 申 健 |
地址: | 100176北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半透明 反射 液晶显示器 阵列 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及液晶显示器技术领域,具体涉及一种半透明半反射式液晶显示器阵列基板及其制造方法。
背景技术
近年来,随着液晶显示器的不断发展,其更加广泛地应用于个人数码助理PDA(Personal Digital Assistant)、移动电话、掌上游戏机PSP(PlayStation Portable)、全球定位系统GPS(Global Positioning System)和户外电视等各个领域,尤其是薄膜液晶显示器TFT LCD(Thin film transistorLiquid Crystal Display)由于具有功耗低、辐射小的优点,已经在平板显示器市场占据了主导地位。
液晶显示器由显示屏、背光源及驱动电路三大核心部件组成。显示屏包括对盒而成的阵列基板和彩膜基板以及液晶,液晶充满在阵列基板和彩膜基板之间的间隙内。液晶显示器显示图像的原理基于液晶中的椭圆状的液晶分子随着驱动电路所施电压大小而旋转时,液晶分子的排列方向也发生改变,导致穿透过液晶分子的照射光线的多少也随之发生变化的特性。液晶显示出图像后,图像的光照射到人眼人才能看的见,由于液晶材料本身并不发光,需要设置在阵列基板后部或侧部的背光源对其施加照射光,该照射光穿透显示屏照射到人们的眼睛后,人们就能看到图像。
为了节省背光源的能源消耗,人们发明一种半透明半反射式的液晶显示装置,在原有显示装置的阵列基板上的部分区域内,通过光刻工艺增加一层浮凸单元组成的树脂层,树脂层之上形成一层金属漫反射板,起到了漫反射穿透显 示屏外表面、彩膜基板以及液晶照射进来的外界光线的作用,称之为反射区,而未增加树脂层的区域背光源的照射光仍旧可以穿透,相对反射区而言人们称其为透明区。背光源的照射光可穿透透明区对液晶施加照射光,反射区可将显示屏前面依次穿透显示屏外表面、彩膜基板以及液晶照射进来的外界光线反射到液晶,与背光源一起或独自对液晶施加透射光,所以一定程度节省了背光源的能耗。
如图1所示,现有的半透明半反射式液晶显示器阵列基板包括衬底(或称基板或衬底基板)1,在衬底1上设置有TFT器件8,衬底1多采用玻璃材料制成,TFT器件8由栅电极2、源电极81、漏电极82以及栅极绝缘层3所组成,源电极81与漏电极82之间设置有有源层4,TFT器件8和有源层4上依次形成有钝化层7和像素电极层15,像素电极层15的部分区域涂覆有一层浮凸(embossing)单元52组成的树脂层9,在浮凸单元52涂覆有一层具备反射性的金属层,具备反射性的金属层形成漫反射板,树脂层9与具备反射性的金属层形成了可反射外界光线的反射区,未涂覆树脂层9与具备反射性的金属层的区域形成透明区,浮凸单元52组成的反射表面具有很好的漫反射特性,可使光线反射到液晶以及显示屏前更广阔的角度范围,使人们从多个角度都看的见液晶显示出来的图像,从而可将外界光线反射到液晶以及人眼,达到节省背光源电能的效果。
现有的半透明半反射式液晶显示器阵列基板的制造方法,为了形成反射区,在普通的阵列基板制造完成后,在阵列基板上接近TFT器件的部分区域涂覆树脂层,通过光刻工艺在树脂层的上表面形成浮凸单元;然后在浮凸单元上的涂覆具备反射性的金属层,由于具备反射性的金属具有很好的反光特性,具备反射性的金属层本身形成了漫反射板的作用。
现有技术虽然一定程度上能够实现利用外界光线,达到节省背光源能源消耗的目的,但至少存在如下问题:
1、与普通阵列基板制造工艺相比,多了制造树脂层以及漫反射板的步骤,增加了制作环节,导致产品缺陷的概率也相应增加了,另外由于增加一步光刻工序使得制造不方便、生产效率低;
2、树脂以及其上形成的浮凸单元,影响了显示屏的盒厚,从设计过程开始就需要精密的计算波长以及盒厚等参数。
发明内容
本发明所要解决的一个技术问题在于提供了一种液晶显示器的阵列基板,既能够利用外界光线,节省背光源能源消耗;又不影响整个显示屏盒厚。
为解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案:
该半透明半反射式液晶显示器阵列基板,包括透明区和反射区;所述阵列基板包括:
一衬底;
栅电极,形成于所述衬底之上;
栅极绝缘层,形成于在所述栅电极以及所述衬底之上;
有源层形成于栅电极上方的栅极绝缘层上,浮凸层形成于所述反射区内的栅极绝缘层上,所述有源层与所述浮凸层的材料相同;
源电极和漏电极形成于所述有源层上方,呈凹凸结构的反射层形成在所述浮凸层上方;
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