[发明专利]液晶显示器的阵列基板及其制造方法、维修方法有效
申请号: | 200810103976.6 | 申请日: | 2008-04-14 |
公开(公告)号: | CN101561598A | 公开(公告)日: | 2009-10-21 |
发明(设计)人: | 张弥 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/13;H01L27/12;H01L21/84 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 | 代理人: | 申 健 |
地址: | 100176北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶显示器 阵列 及其 制造 方法 维修 | ||
1.一种液晶显示器的阵列基板,其特征在于,包括:多条栅极扫描线和多条数据扫描线,所述栅极扫描线和所述数据扫描线交叉形成多个像素区域,所述像素区域包括至少一薄膜晶体管、一像素电极、一连接电极,所述数据扫描线上形成有钝化层,所述钝化层形成有数据扫描线过孔或沟槽;所述连接电极通过所述数据扫描线过孔或沟槽与所述数据扫描线电连接。
2.根据权利要求1所述的液晶显示器的阵列基板,其特征在于:
所述数据扫描线与所述薄膜晶体管的源电极和漏电极为同一层;
所述像素电极与所述连接电极互相断开且为同一层;
所述两层之间形成有所述钝化层。
3.根据权利要求2所述的液晶显示器的阵列基板,其特征在于:所述数据扫描线过孔或沟槽形成在所述栅极扫描线或所述公共电极引线与所述数据扫描线交叉处上方的钝化层上。
4.根据权利要求2所述的液晶显示器的阵列基板,其特征在于:所述像素区域内的数据扫描线的侧部形成有与所述数据扫描线一体的维修金属块,所述数据扫描线过孔或沟槽形成在所述维修金属块上方的所述钝化层上。
5.根据权利要求4所述的液晶显示器的阵列基板,其特征在于:所述维修金属块形成在所述栅极扫描线或所述公共电极引线与所述数据扫描线交叉处的数据扫描线的侧部。
6.根据权利要求4所述的液晶显示器的阵列基板,其特征在于:所述维修金属块与所述数据扫描线的材料为铝、铬、钨、钽、钛、钼及铝镍合金其中的一种或多种的组合。
7.根据权利要求1所述的液晶显示器的阵列基板,其特征在于:所述连接电极的材料为氧化铟锡、氧化铟锌或氧化铝锌其中的一种或多种的组合。
8.一种权利要求1至权利要求7任意一项所述的液晶显示器的阵列基板的维修方法,其特征在于:包括以下步骤:
找出数据扫描线断裂处两边最接近的两个连接电极;
在所述两个连接电极上沉积可导电的维修线,通过可导电的维修线连接所述两个连接电极。
9.根据权利要求8所述的液晶显示器的阵列基板的维修方法,其特征在于:所述可导电的维修线材料为金属。
10.一种液晶显示器的阵列基板的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:
在基板上沉积金属薄膜,通过构图工艺,在所述基板上形成栅电极和栅极扫描线;
在完成上述步骤的所述基板上沉积栅电极绝缘层;
在完成上述步骤的所述基板上沉积非晶硅薄膜,通过构图工艺,形成有源层;
在完成上述步骤的所述基板上沉积金属薄膜,通过构图工艺形成数据扫描线、源电极和漏电极;
在完成上述步骤的所述基板上沉积钝化层,通过构图工艺,在所述数据扫描线上方的钝化层上形成数据扫描线过孔或沟槽,在所述漏电极上方的钝化层上形成漏电极过孔或沟槽;
在完成上述步骤的所述基板上沉积像素电极薄膜,通过构图工艺形成像素电极和连接电极,所述像素电极和连接电极互相断开;
所述像素电极通过所述漏电极过孔或沟槽与所述的漏电极电连接;
所述连接电极通过所述数据扫描线过孔或沟槽与所述数据扫描线电连接。
11.根据权利要求10所述的液晶显示器的阵列基板的制造方法,其特征在于:所述数据扫描线过孔或沟槽形成在所述栅极扫描线或所述公共电极引线与所述数据扫描线交叉处上方的钝化层上。
12.根据权利要求10所述的液晶显示器的阵列基板的制造方法,其特征在于:在形成所述数据扫描线的步骤中,在所述数据扫描线的侧部还形成有与所述数据扫描线一体的维修金属块,所述数据扫描线过孔或沟槽形成在所述维修金属块上方的钝化层上。
13.根据权利要求12所述的液晶显示器的阵列基板的制造方法,其特征在于:在形成所述数据扫描线的步骤中,所形成的维修金属块形成在所述栅极扫描线或所述公共电极引线与所述数据扫描线交叉处的数据扫描线的侧部。
14.根据权利要求10所述的液晶显示器的阵列基板的制造方法,其特征在于:所述连接电极的材料为氧化铟锡、氧化铟锌或氧化铝锌其中的一种或多种的组合。
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