[发明专利]一种N-氧化吡啶的制备方法有效
| 申请号： | 200810105369.3 | 申请日： | 2008-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN101570509A | 公开（公告）日： | 2009-11-04 |
| 发明（设计）人： | 朱斌;史春风;林民;舒兴田;慕旭宏;罗一斌;汪燮卿;汝迎春 | 申请（专利权）人： | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油化工科学研究院 |
| 主分类号： | C07D213/89 | 分类号： | C07D213/89;B01J29/89 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王景朝;庞立志 |
| 地址： | 100029*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 氧化 吡啶 制备 方法 | ||
1.一种N-氧化吡啶的制备方法，其特征在于在温度为0～180℃和压力为 0.1～3.0MPa的条件下，将吡啶、氧气、氢气、稀释气体、溶剂和催化剂 混合接触反应，吡啶与氧气、氢气、稀释气体的摩尔比为1∶(0.1～10)∶ (0.1～10)∶(0～100)，吡啶与催化剂的质量比为(0.1～50)∶1，溶 剂与催化剂的质量比为(20～1000)∶1，所说的催化剂为一种微孔钛硅材 料或含有该微孔钛硅材料的组合物，微孔钛硅材料的组成用氧化物的形式 表示为xTiO2·100SiO2·yEmOn·zE，其中x值为0.001～50.0、(y+z)值 为0.005～20.0且y/z＜1，E表示选自Ru、Rh、Pd、Re、Os、Ir、Ag、Pt 和Au中的一种或几种贵金属，m和n为满足E氧化态所需的数，该材料晶 粒部分或全部为空心结构，所说的稀释气体选自氮气、氩气、氦气、氖气， 或者选自二氧化碳、甲烷、乙烷、丙烷，所说的溶剂为甲醇。
2.按照权利要求1的方法，其特征在于所说的贵金属E为Pt和/或Pd。
3.按照权利要求1的方法，其特征在于所说的x值为0.005～25.0、(y+z) 值为0.01～10.0。
4.按照权利要求1的方法，其特征在于所说的含有微孔钛硅材料的组合物由 微孔钛硅材料与其他选自含钛材料、二氧化硅和氧化铝中的一种或多种组 成。
5.按照权利要求1的方法，其特征在于原料吡啶与氧气的摩尔比为1∶(0.2～ 5.0)，吡啶与氢气的摩尔比为1∶(0.2～5.0)，溶剂与催化剂的质量比 为(20～500)∶1。
6.按照权利要求1的方法，其特征在于反应温度为20～120℃，反应压力为 0.3～2.5MPa。
7.按照权利要求1的方法，其特征在于采用间歇操作或连续操作方式，反应 总气体空速为10～10000h-1。
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