[发明专利]一种适于制作PPKTP器件的KTP晶体生长方法有效

专利信息
申请号: 200810105714.3 申请日: 2008-04-30
公开(公告)号: CN101319385A 公开(公告)日: 2008-12-10
发明(设计)人: 沈德忠;黄朝恩;师瑞泽;胡永岚;肖亚波;王国影;高山虎;葛世艳;苏贞珍;尹利君;王忠;何庭秋 申请(专利权)人: 烁光特晶科技有限公司
主分类号: C30B29/22 分类号: C30B29/22;C30B29/14;C30B9/00;C30B11/14
代理公司: 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 代理人: 尹振启
地址: 100018*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 适于 制作 ppktp 器件 ktp 晶体生长 方法
【权利要求书】:

1.一种适于制作PPKTP器件的KTP晶体生长方法,其特征在于,包括以下步骤:

A)长X向片状籽晶制作:从可获得的X向最长的KTP原晶坯料中平行XZ平面切割籽晶片,在X向最长位置垂直于Z向加工一XY平面,然后在该XY平面沿X方向的中心线向两端的XZ平面倒角,形成的顶角α的范围在0°<α≤180°之间,并细磨倒角面以作为籽晶生长面;

B)将籽晶的生长面浸入到生长熔液中的方式下种,进行晶体的生长;所述生长熔液中KTP与磷酸盐助熔剂中的K6的比例可选择KTP:K6为摩尔比0.7-2之间。

2.根据权利要求1所述的KTP晶体生长方法,其特征在于:进一步包括,在步骤B)的晶体生长过程中,不断对正在生长的X面进行粗糙化处理以延长晶体的X向长度,且进一步以步骤B)中获得的晶体为原晶坯料,进行如步骤A)的籽晶加工,之后重复步骤B)的晶体生长。

3.根据权利要求2所述的KTP晶体生长方法,其特征在于:可多次重复步骤A)的籽晶加工和步骤B)的生长步骤。

4.根据权利要求2所述的KTP晶体生长方法,其特征在于:步骤B)中的粗糙化处理包括:旋转籽晶,在熔液表面投入块状结晶体,使其摩擦正在生长晶体的X面;或者晶体静止,用铂金片或丝旋转刮过正在生长的X面,粗糙化晶体表面使晶体X向快速生长。

5.根据权利要求1所述的KTP晶体生长方法,其特征在于:所述生长溶液为高温下合成K6助熔剂的KTP熔液,制备方法为:按所需要的KTP及K6比例计算KH2PO4、K2HPO4、TiO2原料或其它等效化学原料K2CO3、P2O5、NH4H2PO4的重量,然后将它们混合,再进行高温900-1000摄氏度熔化,恒温搅拌24小时左右,然后冷却到熔液的饱和点附近。

6.根据权利要求1所述的KTP晶体生长方法,其特征在于:生长熔液中KTP与K6的比例可选择以下任意一种:

KTP∶K6=1.345mol∶1mol=0.47g/g

KTP∶K6=1.186mol∶1mol=0.4233g/g

KTP∶K6=0.84mol∶1mol=0.30g/g

7.根据上述任意一项权利要求所述的KTP晶体生长方法,其特征在于:所述籽晶厚度为1mm,顶角α为60°,籽晶浸没到生长熔液中的深度为0.5-1mm。

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