[发明专利]电路板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200810108774.0 申请日: 2008-05-29
公开(公告)号: CN101282622A 公开(公告)日: 2008-10-08
发明(设计)人: 廖国成 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46;H05K1/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 电路板 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1、一种制造电路板的方法,包含下列步骤:

提供一基板,该基板具有两相对的第一表面与第二表面;

形成内埋在该基板的第一表面上的一导电线路层,该导电线路层具有裸露于该第一表面的一第一区域;

在该基板的第一表面上形成一遮蔽层,并裸露出该第一区域;

对该基板进行电镀,使得该第一区域上形成一第二铜层;

将该遮蔽层移除;及

在该基板的第一表面上形成一防焊层,并裸露出该第二铜层。

2、如权利要求1所述的方法,还包含:

在该基板上形成一通孔,

其中该遮蔽层裸露出该通孔,该通孔被镀上该第二铜层。

3、如权利要求1所述的方法,其中在形成内埋在该基板的第一表面上的一导电线路层的步骤之后,该第一区域与该基板的第一表面齐平。

4、如权利要求1所述的方法,其中形成内埋在该基板的第一表面上的一导电线路层的步骤包含:

提供一载板;

在该载板上形成具有突起结构的一第一铜层;

将该载板与该基板压合,使得该第一铜层的突起结构埋入该基板的第一表面;

将该载板移除;及

薄化该第一铜层以使该基板的第一表面裸露出。

5、如权利要求4所述的方法,其中薄化该第一铜层的方法为蚀刻方法。

6、如权利要求1所述的方法,其中该遮蔽层为一干膜。

7、如权利要求2所述的方法,还包含:

在该遮蔽层形成于该基板的第一表面上之前,对该基板进行无电电镀,以在该基板的第一表面及通孔上形成一第三铜层;及

在该第一区域上形成该第二铜层之后,将形成于该基板的第一表面上的第三铜层移除。

8、一种电路板,其包含:

一基板,具有一第一表面;

一导电线路层,内埋在该基板且裸露于该基板的第一表面上,其中该导电线路层具有一第一区域;

一金属层,形成于该第一区域上,并突出于该基板的第一表面;及

一防焊层,形成于该基板的第一表面上,并裸露出该金属层。

9、如权利要求8所述的电路板,其中该基板具有一通孔,该通孔镀有一铜层。

10、如权利要求8所述的电路板,其中该第一区域与该基板的第一表面齐平。

11、如权利要求8所述的电路板,其中该金属层为一铜层。

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