[发明专利]电路板及其制造方法有效
申请号: | 200810108774.0 | 申请日: | 2008-05-29 |
公开(公告)号: | CN101282622A | 公开(公告)日: | 2008-10-08 |
发明(设计)人: | 廖国成 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | H05K3/46 | 分类号: | H05K3/46;H05K1/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电路板 及其 制造 方法 | ||
1、一种制造电路板的方法,包含下列步骤:
提供一基板,该基板具有两相对的第一表面与第二表面;
形成内埋在该基板的第一表面上的一导电线路层,该导电线路层具有裸露于该第一表面的一第一区域;
在该基板的第一表面上形成一遮蔽层,并裸露出该第一区域;
对该基板进行电镀,使得该第一区域上形成一第二铜层;
将该遮蔽层移除;及
在该基板的第一表面上形成一防焊层,并裸露出该第二铜层。
2、如权利要求1所述的方法,还包含:
在该基板上形成一通孔,
其中该遮蔽层裸露出该通孔,该通孔被镀上该第二铜层。
3、如权利要求1所述的方法,其中在形成内埋在该基板的第一表面上的一导电线路层的步骤之后,该第一区域与该基板的第一表面齐平。
4、如权利要求1所述的方法,其中形成内埋在该基板的第一表面上的一导电线路层的步骤包含:
提供一载板;
在该载板上形成具有突起结构的一第一铜层;
将该载板与该基板压合,使得该第一铜层的突起结构埋入该基板的第一表面;
将该载板移除;及
薄化该第一铜层以使该基板的第一表面裸露出。
5、如权利要求4所述的方法,其中薄化该第一铜层的方法为蚀刻方法。
6、如权利要求1所述的方法,其中该遮蔽层为一干膜。
7、如权利要求2所述的方法,还包含:
在该遮蔽层形成于该基板的第一表面上之前,对该基板进行无电电镀,以在该基板的第一表面及通孔上形成一第三铜层;及
在该第一区域上形成该第二铜层之后,将形成于该基板的第一表面上的第三铜层移除。
8、一种电路板,其包含:
一基板,具有一第一表面;
一导电线路层,内埋在该基板且裸露于该基板的第一表面上,其中该导电线路层具有一第一区域;
一金属层,形成于该第一区域上,并突出于该基板的第一表面;及
一防焊层,形成于该基板的第一表面上,并裸露出该金属层。
9、如权利要求8所述的电路板,其中该基板具有一通孔,该通孔镀有一铜层。
10、如权利要求8所述的电路板,其中该第一区域与该基板的第一表面齐平。
11、如权利要求8所述的电路板,其中该金属层为一铜层。
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