[发明专利]针对多模式逻辑单元可编程门阵列的工艺映射方法无效
申请号: | 200810118735.9 | 申请日: | 2008-08-20 |
公开(公告)号: | CN101656535A | 公开(公告)日: | 2010-02-24 |
发明(设计)人: | 张琨;周华兵;陈陵都;刘忠立 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H03K19/177 | 分类号: | H03K19/177 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100083北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 针对 模式 逻辑 单元 可编程 门阵列 工艺 映射 方法 | ||
1、一种针对多模式逻辑单元可编程门阵列的工艺映射方法,其特征在于,该方法包括映射和合并两个步骤,首先对输入的与具体工艺无关的门级电路网表进行解析,并对解析的结果进行工艺映射,然后再根据多模式LC的约束信息对工艺映射结果进行合并处理,计算出多模式LC的模式配置值,得到最终优化的工艺相关的电路网表。
2、根据权利要求1所述的针对多模式逻辑单元可编程门阵列的工艺映射方法,其特征在于,所述对解析的结果进行工艺映射的步骤中,采用优先分割算法,实现逻辑无关网表到LUT网表的映射。
3、根据权利要求2所述的针对多模式逻辑单元可编程门阵列的工艺映射方法,其特征在于,所述优先分割算法避免穷举所有分割,只对每个节点计算固定数目的分割,该固定数目的分割称为优先分割。
4、根据权利要求3所述的针对多模式逻辑单元可编程门阵列的工艺映射方法,其特征在于,在所述优先分割算法中,对分割进行优先级计算的标准取决于映射的目标,对于深度优先映射,分割的深度作为第一标准,深度相同的情况,分割的输入数目作为第二标准,面积作为最后标准。
5、根据权利要求1所述的针对多模式逻辑单元可编程门阵列的工艺映射方法,其特征在于,所述根据多模式LC的约束信息对工艺映射结果进行合并处理的步骤中,是基于最大基数匹配对LUT网表进行合并优化,具体包括:
一个图G可以由一个二元组G(V,E)表示,其中V代表图中的结点集,E代表结点之间的连线集,表示结点与结点之间的关系;合并处理前的电路网表可能包含n个小于等于3输入的LUT单元,可以将这些LUT单元每个都认为是图G的一个结点vi(i∈{1,2,3......,n}),然后计算所有这些LUT单元中每两个LUTi,LUTj(i,j∈{1,2,3......,n})的输入合集数目K(K=faninLUTi∪faninLUTj),这个过程的时间复杂度为O(n2),当K值小于或等于4时,这两个LUT所代表的点vi,vj就被认为互为邻接点,并将这些点做标记,它们之间存在一条边eij,最后,将图G中不与任何结点互为邻接点的结点舍去,就得到一个新的简单图G′;设G(V,E)是简单图,边集
6、根据权利要求5所述的针对多模式逻辑单元可编程门阵列的工艺映射方法,其特征在于,所述求出实际电路等效图G′的最大匹配M后,进一步包括:
根据求出的实际电路等效图G′的最大匹配M,以及多模式LC库单元信息的约束,将两个相关的LUT合并入一个LC,默认输入数目较多的LUT映射到C-LUT3。
7、根据权利要求1所述的针对多模式逻辑单元可编程门阵列的工艺映射方法,其特征在于,该方法是将电路网表转化为一个图,并将最大基数匹配算法应用于LUT的合并,最后对合并后的LC的模式配置值进行计算。
8、根据权利要求7所述的针对多模式逻辑单元可编程门阵列的工艺映射方法,其特征在于,所述合并具体包括:
根据一对相关的LUT输入合集K(2≤K≤4),输入并集S(S=faninLUTi∩faninLUTj,0≤S≤3)数目,S-LUT3的实际输入数目和C-LUT3的实际输入数目的不同一共存在12种匹配情况,合并时按这12种情况进行判断,分别计算出新的LC中存储单元和三个模式选择MUX的配置值。
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