[发明专利]基板处理装置有效
申请号: | 200810124894.X | 申请日: | 2008-06-25 |
公开(公告)号: | CN101378001A | 公开(公告)日: | 2009-03-04 |
发明(设计)人: | 上代和男;松井久明 | 申请(专利权)人: | 大日本网目版制造株式会社 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 马少东;徐恕 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 | ||
1.一种基板处理装置,具有向基板供给处理液并对基板实施规定的湿式处理的湿式处理室,通过形成在所述湿式处理室的隔壁上的基板运送用的开口部,对所述湿式处理室进行基板的运入运出,其特征在于,具有:
第一闸门装置和第二闸门装置,所述第一闸门装置具有从所述湿式处理室的室内一侧开闭所述开口部的闸门主体,所述第二闸门装置具有从所述湿式处理室的室外一侧开闭所述开口部的闸门主体,
气流形成装置,其包括配置在所述湿式处理室的室外的喷嘴构件,并且至少在所述开口部处于开口状态时,使气体从所述喷嘴构件喷出,由此形成朝向所述开口部的气流;
所述气流形成装置从所述喷嘴构件向通过所述开口部的基板供给气体,由此在该基板的表面上形成从湿式处理室的室外一侧向室内一侧流动的气流。
2.如权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,
具有相邻处理室,所述相邻处理室经由所述开口部而与所述湿式处理室连通,并且对基板实施所述湿式处理的前处理或者后处理;在该相邻处理室配置有所述第二闸门装置以及所述喷嘴构件。
3.如权利要求1或2所述的基板处理装置,其特征在于,
还具有闸门控制装置,所述闸门控制装置在通过所述闸门主体关闭所述开口部的关闭状态和通过使所述闸门主体退避到规定的退避位置而打开所述开口部的打开状态之间切换控制所述各闸门装置的驱动状态,
所述闸门控制装置在基板通过所述开口部时,在将所述第一闸门装置从关闭状态切换到打开状态之前,将所述第二闸门装置从关闭状态切换到打开状态。
4.如权利要求3所述的基板处理装置,其特征在于,
还具有控制所述气流形成装置的气流形成控制装置,所述气流形成控制装置与第一闸门装置从关闭状态向打开状态切换的动作同步而开始供给气体。
5.如权利要求1或2所述的基板处理装置,其特征在于,
所述各闸门装置中的至少第二闸门装置构成为通过使所述闸门主体沿所述隔壁的壁面滑动来开闭所述开口部的结构。
6.如权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于,
所述相邻处理室还具有:在该处理室内以包围所述开口部的附近的方式形成的预备室;对预备室内的环境进行排气的预备室排气装置。
7.一种基板处理装置,具有向基板供给处理液并对基板实施规定的湿式处理的湿式处理室,通过形成在所述湿式处理室的隔壁上的基板运送用的开口部,对所述湿式处理室进行基板的运入运出,其特征在于,具有:
闸门装置,其用于开闭所述开口部,
气流形成装置,其包括配置在所述湿式处理室的室外的喷嘴构件,并且至少在所述开口部处于开口状态时,使气体从所述喷嘴构件喷出,由此形成朝向所述开口部的气流;
所述湿式处理室具有隔着中间室在基板运送方向上并列的第一处理室以及第二处理室,
所述开口部是在所述第一处理室和所述中间室的隔壁上形成的第一开口部和在所述中间室和所述第二处理室的隔壁上形成的第二开口部,所述闸门装置具有分别开闭所述第一、第二开口部的闸门装置,
所述第一处理室以及所述第二处理室构成为使用相互不同的处理液对基板按顺序实施规定的湿式处理,并且,所述相互不同的处理液之间的关系是要求在处理基板时抑制在其中一种处理液中混入另一种处理液的情况的关系,
所述气流形成装置构成为,在所述中间室具有所述喷嘴构件,通过使气体从所述喷嘴构件喷出,从而形成朝向对象开口部的气流,所述对象开口部是所述第一开口部以及第二开口部中的一个开口部,并且将位于使用所述另一种处理液的处理室与所述中间室之间的开口部作为该对象开口部,
还设置有中间室排气装置,所述中间室排气装置在所述气流形成装置的所述喷嘴构件与所述对象开口部之间的位置处具有排气口,并通过所述排气口对所述中间室进行排气。
8.如权利要求7所述的基板处理装置,其特征在于,
通过在所述中间室设置分隔壁,将所述中间室的内部分隔为含有所述喷嘴构件的喷嘴室和含有所述对象开口部以及排气口的排气室,并且所述喷嘴构件通过设置在所述分隔壁上的基板运送用的开口部而向所述排气室一侧喷出气体。
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