[发明专利]基板处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种向LCD(液晶显示装置)、PDP(等离子显示器)等FPD(平板显示器)用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、半导体基板等基板供给各种处理液来实施处理的基板处理装置。

背景技术

一直以来，公知有如下装置，即，具有多个处理室，在运送LCD、PDP用玻璃基板等基板的同时，在各处理室内向基板供给处理液，由此对基板实施预定的工艺处理。例如，在专利文献1中记载有如下装置：相邻地设置通过给基板供给剥离液来剥离抗蚀剂覆膜的剥离处理室和对剥离处理后的基板进行清洗的清洗处理室。

在这种装置中，伴随着处理而充满处理室的雾状的处理液通过基板运送用的开口部侵入到相邻的处理室(称作相邻处理室)，会给该相邻处理室的基板处理带来各种影响。例如，在上述专利文献1的装置中，回收并再使用(循环使用)在剥离处理室中使用的剥离液，但是，此时，若清洗液的雾滴从清洗处理室侵入剥离处理室，则剥离液的质量就会恶化。

因此，通常，例如专利文献2所示，在处理室之间设置闸门，通过仅在运送基板时才打开开口部来防止雾滴侵入相邻处理室。

专利文献1：JP特开2004-146414号公报。

专利文献2：JP特开2000-58501号公报。

但是，即使是在处理室之间设置了闸门的装置，由于在运送基板过程中使开口部开着，所以雾滴依然会容易地通过开口部而侵入相邻处理室，从而，在防止雾滴侵入相邻处理室的问题上还存在改进的余地。

而且，考虑到在开口部关闭时附着于闸门上的雾滴在闸门动作时会飞散到相邻处理室内，特别是，在专利文献2的结构中，由于闸门是绕水平轴转动而倒向处理室内一侧的可倒式结构，所以所附着的雾滴等在闸门动作时(特别是打开时)容易飞散，因此这一点也需要改善。

另外，在多个处理室相邻的装置中，雾滴从其中一侧的处理室向另一侧的处理室侵入会成为问题，而相反却是在某种程度上容许的情况较多。例如，在专利文献1的装置中，在防止剥离液恶化的基础上，必须阻止雾滴从清洗处理室侵入剥离处理室，相反，即剥离液(雾滴)向清洗室的侵入就不会成为什么问题。从而，在防止雾滴侵入的对策方面，优选在考虑了这种情况的基础上来谈对策。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种能更有效地防止雾状处理液侵入相邻的处理室的基板处理装置。

为了解决上述问题，本发明的基板处理装置的基本结构具有向基板供给处理液并对基板实施规定的湿式处理的湿式处理室，并且，基板除了装置通过形成在所述湿式处理室的隔壁上的基板运送用的开口部，对所述湿式处理室进行基板的运入运出，而且具有：闸门装置，其用于开闭所述开口部；气流形成装置，其包括配置在所述湿式处理室的室外的喷嘴构件，并且至少在所述开口部开口状态时，使气体从所述喷嘴构件喷出，由此形成朝向所述开口部的气流。

根据这种基板处理装置，在闸门装置使开口部处于打开状态时，即，主要是在基板通过开口部时，通过使气体从喷嘴构件喷出，在湿式处理室外形成朝向所述开口部的气流，利用其气压防止通过了所述开口部的处理液(雾滴)从湿式处理室内向室外流出。因此，与仅利用闸门装置来开闭开口部的现有装置相比，能够更可靠地防止雾滴流出。

另外，在所述基板处理装置中，作为所述闸门装置具有第一闸门装置和第二闸门装置，所述第一闸门装置具有从所述湿式处理室的室内一侧开闭所述开口部的闸门主体，所述第二闸门装置具有从所述湿式处理室的室外一侧开闭所述开口部的闸门主体，所述气流形成装置从所述喷嘴构件向通过所述开口部的基板供给气体，由此在该基板的表面上形成从湿式处理室的室外一侧向室内一侧流动的气流。

根据所述结构，由于在湿式处理室内还配备有闸门装置(第一闸门装置)，所以雾滴很难附着在湿式处理室以外的闸门装置(第二闸门装置)的闸门主体上。因此，能够有效地防止附着在第二闸门装置上的雾滴或者干燥物在闸门装置动作时飞散到湿式处理室的室外侧。并且，在基板通过开口部时，通过气流形成装置在基板表面上形成朝向湿式处理室的室内一侧流动的气流，所以更可靠地防止了雾滴从湿式处理室流出。

作为具体的结构，例如具有相邻处理室，所述相邻处理室经由所述开口部而与所述湿式处理室连通，并且对基板实施所述湿式处理的前处理或者后处理；在这种情况下，在该相邻处理室配置有所述第二闸门装置以及所述喷嘴构件。

根据所述结构，能够有效地防止当闸门动作时雾滴飞散到相邻处理室内或者在运送基板过程中雾滴通过所述开口部侵入相邻处理室内。