[发明专利]排气捕集装置

说明书

本申请是2005年5月12日递交的发明名称为“排气捕集装置”的申请200580013031.X的分案申请

技术领域

本发明涉及排气捕集装置，特别是涉及可提高排气捕集装置的捕集效率、减少析出成分向下游侧流出的排气捕集装置的结构。

背景技术

一般而言，作为半导体制造装置使用用于在基板上形成薄膜、蚀刻基板的各种气体反应装置。通常，这些气体反应装置具有气体供给部分、从该气体供给部分供给气体的密闭的气体反应室、与该气体反应室连接的排气路径、和与该排气路径连接的真空泵等排气装置。

在这种气体反应装置中，从气体反应室排出的气体中析出反应副生成物，堆积在排气路径或排气装置内，造成排气路径的闭塞或排气装置的故障。因此，在排气路径中间配置排气捕集装置，捕集排出气体中的反应副生成物(参照日本专利公开JP8-13169A，JP8-24503A，JP8-299784A)。在多数情况下，作为这种排气捕集装置，使用在壳体内部，以与排气方向交叉的姿势配置挡板或翅片等冲突板，使得可利用与冲突板冲突的排出气体冷却，在冲突板的表面上堆积规定的析出物而构成的冲突型冷却捕集装置。在这种冲突型冷却捕集装置中，通过使冲突板的形状或配置方式最优化，可高捕集效率，减少析出物向下游侧的流出。

另一方面，也提出了沿着排气路径串联地配置多个排气捕集部分而构成的排气捕集装置(参照日本专利公开JP10-73078A，JP2000-256856A，JP2001-131748A，JP2001-329367A)。作为这种排气捕集装置，通过使串联配置的多个排气捕集部分的冷却温度成为互不相同的温度，可提高捕集效率，分别由各个排气捕气部分捕集不同的析出物(日本专利公开JP10-73078A，JP2001-256856A，JP 2001-329367A)，并且，通过利用多个排气捕集部分分散各自析出物堆积量，可提高维护性(日本专利公开JP2001-131748A)。

在上述的冲突型冷却捕集装置中，由于从气体导入口导入装置内部的排出气体，在排气通路内与冲突板接触，急速地冷却，反应副生成物从而大量地附着在气体导入口附近，排气通路的导通减小，不能维持配置在上游的气体反应室的减压状态，在排气通路的入口附近产生闭塞，因此，排气捕集装置的维修频率增大，这是一个问题点。

为了避免上述问题，必需提高排气通路的冷却温度。但当提高排气通路的温度时，存在着在排气捕集装置内不能充分捕集反应副生成物，反应副生成物在配置于排气捕集装置的下游侧的排气装置或除害装置内析出，排气装置或除害装置的维修周期缩短、会产生故障的问题。

在日本专利公开JP2001-131748A中所述的捕集器装置中，设置沿着排出气体的流动方向分多段配置的多个捕集器构件；在将这些多个捕集构件分成多个组的情况下，除了位于排出气体流动方向最下游侧的组以外，对各组中每个组独立加热的加热单元；和控制该加热单元的发热量的热量控制部分。这样，在反应副生成物堆积在最下游侧的捕集器构件中后，使反应副生成物依次堆积在上游侧的捕集器构件中，可防止多个捕集器构件的析出物的堆积量的偏置。但是，在这种装置中，由于必需在时间上控制加热单元，控制单元变得复杂，而且根据排出气体的成分，必需高度地管理其控制方式。另外，由于采用这种结构主要着眼于防止捕集器装置内的堆积量的偏置，在位于最下游侧的捕集器构件的更下游侧中，难以减少析出反应副生成物的量。

发明内容

本发明是考虑上述问题而提出的，其目的是要提供不进行复杂控制，也可以抑制反应副生成物等的析出物的堆积量的偏置，而且可以可靠地减少析出成分向下游侧流出的排气捕集装置。

根据本发明，提供了一种排气捕集装置，从通过气体排气路径的排出气体中捕集析出物，其特征在于，

沿着所述排气路径串联配置多个形成有使排出气体通过其各自的内部的排气通路的排气捕集部分；

所述多个排气捕集部分包含配置在排出气体的流动方向的上游侧的第一排气捕集部分、和配置在下游侧的第二排气捕集部分；

在所述第一排气捕集部分上设置多个冲突板，所述多个冲突板配置为遮断沿着该排气通路的轴线方向在该排气通路中流动的排出气体的流动，而且，配置所述多个冲突板，使得在该排气通路内存在沿着排气通路的轴线方向连续延伸而不被配置在该排气通路内的任何冲突板遮蔽的空间；