[发明专利]抗反射抗眩光学薄膜及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200810130592.3 申请日: 2008-07-14
公开(公告)号: CN101630026A 公开(公告)日: 2010-01-20
发明(设计)人: 翁畅健;陈庆松 申请(专利权)人: 达信科技股份有限公司
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人: 章社杲;李丙林
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 反射 眩光 薄膜 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光学薄膜,包括:

基材;

硬镀层,形成于所述基材上;以及

抗反射抗眩涂层,形成于所述硬镀层上,并具有凹凸表面,所述凹凸表面的表面粗糙度大于等于80nm,所述抗反射抗眩涂层包括:

低折射率的含氟树脂基底;以及

多个团聚体,分散且包覆于所述含氟树脂基底内,并使所述含氟树脂基底的上表面突起,以形成所述抗反射抗眩涂层的所述凹凸表面,每个所述团聚体由至少二个纳米粒子聚集堆积组成。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜,其中,所述光学薄膜具有的雾度介于5至50之间。

3.根据权利要求1所述的光学薄膜,其中,所述光学薄膜的清晰度介于490至350之间。

4.根据权利要求1所述的光学薄膜,其中,所述光学薄膜的雾度约为10至30,所述光学薄膜的清晰度约为480至450。

5.根据权利要求1所述的光学薄膜,其中,相对于取100重量份的所述含氟树脂基底,所述多个纳米粒子的添加量介于0.1至10重量份之间。

6.根据权利要求1所述的光学薄膜,其中,所述抗反射抗眩涂层的平均膜厚介于80nm至120nm之间。

7.根据权利要求1所述的光学薄膜,其中,所述多个团聚体的平均粒径范围介于50nm至150nm之间。

8.根据权利要求1所述的光学薄膜,其中,所述树脂基底的折射率小于等于1.50%。

9.根据权利要求1所述的光学薄膜,其中,所述纳米粒子的折射率与所述树脂基底的折射率的差值介于0.01%至0.2%之间。

10.一种光学薄膜的制造方法,包括:

提供基材;

在所述基材上形成硬镀层;

配制抗反射抗眩涂液,包括:

提供低折射率的含氟树脂基底并将多个纳米粒子添加于所述含氟树脂基底;以及

将所述多个纳米粒子与所述含氟树脂基底混合,而形成分散于所述含氟树脂基底中的多个团聚体,每个所述团聚体由至少二个所述多个纳米粒子聚集而成;以及

将所述抗反射抗眩涂液涂布于所述硬镀层上。

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