[发明专利]研磨装置及其组合方法有效
申请号: | 200810131094.0 | 申请日: | 2008-08-21 |
公开(公告)号: | CN101342672A | 公开(公告)日: | 2009-01-14 |
发明(设计)人: | 张家晔;吕林声;郑国瑞 | 申请(专利权)人: | 友达光电股份有限公司 |
主分类号: | B24B13/00 | 分类号: | B24B13/00;B24B13/01 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 汤在彦 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 装置 及其 组合 方法 | ||
1.一种研磨装置,用以研磨一待研磨件,其特征在于,该研磨装置包含:
一定盘,具有一受压面及一承载面,且该受压面的边缘形成一导圆角;
一研磨垫,固定于该承载面;
一挡块,设置于该定盘的边缘外侧,其中该挡块的顶面靠近该定盘的边缘形成另一导圆角,且该定盘的受压面及该挡块的顶面位于同一水平面;
一正压气垫,压制于该受压面;
一垫片,设置于该受压面与该正压气垫间,且延伸覆盖至该挡块的一部分;以及
一固定件,穿设该挡块并锁固于该定盘的边缘。
2.如权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,该研磨装置包含一逆压气垫,该逆压气垫设置于该定盘边缘。
3.如权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,该固定件为螺合件。
4.如权利要求1所述的研磨装置,其特征在于,该挡块的材质硬度小于该定盘的材质硬度。
5.一种研磨装置,用以研磨一待研磨件,其特征在于,该研磨装置包含:
一定盘,具有一受压面及一承载面;
一研磨垫,固定于该承载面;
一挡块,设置于该定盘的边缘外侧;
一正压气垫,设置于该受压面及挡块上方;及
一垫片,设置于该受压面与该正压气垫间,且延伸覆盖至该挡块的一部分;
一固定件,该固定件穿设该挡块并锁固于该定盘的边缘。
6.如权利要求5所述的研磨装置,其特征在于,该研磨装置还包含一逆压气垫,设置于该定盘边缘。
7.如权利要求5所述的研磨装置,其特征在于,该受压面及该挡块的顶面位于同一水平面。
8.如权利要求5所述的研磨装置,其特征在于,该受压面的边缘及该挡块的顶面靠近该定盘的边缘分别形成一导圆角。
9.如权利要求5所述的研磨装置,其特征在于,该固定件为螺合件。
10.如权利要求5所述的研磨装置,其特征在于,该挡块的材质硬度小于该定盘的材质硬度。
11.一种研磨装置的组合方法,该方法包含:
提供一定盘,该定盘具有一受压面及一承载面;
固定一研磨垫于该承载面;
设置至少一挡块于定盘的边缘;
设置一正压气垫于该受压面及该挡块之上;及
隔离该正压气垫延伸于该定盘边缘外的部分,以一固定件穿设该挡块并锁固于该定盘的边缘,使该定盘边缘不嵌入该正压气垫。
12.如权利要求11所述的方法,其特征在于,隔离该正压气垫延伸于该定盘边缘外的步骤包含设置一垫片于该受压面及该气垫间,且以该垫片覆盖该挡块的一部分。
13.如权利要求11所述的方法,其特征在于,隔离该正压气垫延伸于该定盘边缘外的步骤包含调整该挡块相对于该定盘的位置,使该受压面及该挡块的顶面位于同一水平面。
14.如权利要求11所述的方法,其特征在于,隔离该正压气垫延伸于该定盘边缘外的步骤包含加工该定盘及该挡块,使该受压面的边缘及该挡块的顶面靠近该定盘的边缘分别形成一导圆角。
15.如权利要求12所述的方法,其特征在于,还包含一步骤,设置一逆压气垫于该定盘边缘。
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