[发明专利]太阳能电池的制造方法有效
申请号: | 200810132694.9 | 申请日: | 2008-07-10 |
公开(公告)号: | CN101626045A | 公开(公告)日: | 2010-01-13 |
发明(设计)人: | 洪儒生;徐文庆;何思桦 | 申请(专利权)人: | 昆山中辰矽晶有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/042;H01L31/0224 |
代理公司: | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 周春发 |
地址: | 215316江苏省昆*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 太阳能电池 制造 方法 | ||
1.一种太阳能电池的制造方法,该太阳能电池至少包 含有一晶圆以及极性相异的第一、第二电极层,其中,两电 极层的接面部分利用气相沉积制程形成于该晶圆的同一侧, 且两电极层间具有间距;
其中于进行气相沉积制程之前,依序于晶圆顶面形成凹 凸状的微结构,再于晶圆底面及晶圆顶面的微结构分别设置 第一、第二钝化层,其中该第一钝化层为非晶硅材质或添加 掺质碳、氮、氧的硅材质,且该第二钝化层为氧化硅或掺杂 的非晶硅材质;以及
其中于进行气相沉积制程之后以气相沉积工序于该晶圆 底面侧设置一绝缘层;
其中该气相沉积制程中包含有第一屏蔽层,该第一屏蔽 层具有复数第一开口,将该第一屏蔽层放置于该晶圆一侧进 行气相沉积,使该晶圆相对于第一屏蔽层的各第一开口沉积 有第一电极接面;
其中该晶圆形成第一电极接面的同侧,再利用具有复数 第二开口的第二屏蔽层于第一电极接面旁沉积有第二电极 接面。
2.如权利要求1所述太阳能电池的制造方法,其中各电 极层设于该晶圆的底面。
3.如权利要求2所述太阳能电池的制造方法,其中该第 二钝化层表面进一步设有一抗反射保护层。
4.如权利要求1所述太阳能电池的制造方法,其中该第 一、第二电极层分别包含有复数第一、第二电极接面以及第 一、第二金属电极,各金属电极设置于各电极接面上方。
5.如权利要求4所述太阳能电池的制造方法,其中该第 一电极接面以及第二电极接面间隔排列。
6.一种太阳能电池的制造方法,该太阳能电池至少包 含有一晶圆,于该晶圆一侧进行至少两次气相沉积,以于晶 圆同一侧形成极性相异的第一、第二电极层,而各气相沉积 使用具有复数开口的屏蔽层进行沉积,各屏蔽层的开口率决 定第一、第二电极层的间距大小;
其中于进行气相沉积制程之前,依序于晶圆顶面形成凹 凸状的微结构,再于晶圆底面及晶圆顶面的微结构分别设置 第一、第二钝化层,其中该第一钝化层为非晶硅材质或添加 掺质碳、氮、氧的硅材质,且该第二钝化层为氧化硅或掺杂 的非晶硅材质;以及
其中于进行气相沉积制程之后以气相沉积工序于该晶圆 底面侧设置一绝缘层。
7.如权利要求6所述太阳能电池的制造方法,其中该第 一、第二电极层分别包含有复数第一、第二电极接面以及第 一、第二金属电极,各金属电极设置于各电极接面上方,该 第一电极接面以及第二电极接面间隔排列。
8.一种太阳能电池的制造方法,至少包含有下列步骤:
A、提供一晶圆;
B、该晶圆一侧进行气相沉积制程,该气相沉积制程至 少包含有两次气相沉积,以于该晶圆同一侧沉积有第一、第 二电极层,且两电极层间具有间距;
其中该步骤A与步骤B之间进一步依序包含有一步骤 C2、C1,该步骤C2于晶圆顶面形成凹凸状的微结构,该步骤 C1为于晶圆底面及晶圆顶面的微结构分别设置第一、第二钝 化层,其中该第一钝化层为非晶硅材质或添加掺质碳、氮、 氧的硅材质,且该第二钝化层为氧化硅或掺杂的非晶硅材 质;以及
其中在步骤B之后进一步包含有步骤E,该步骤E为以气 相沉积工序于该晶圆底面侧设置一绝缘层;
其中该第一、第二电极层分别包含有复数第一、第二电 极接面以及第一、第二金属电极,而步骤B至少包含有下列 步骤:
B1、利用第一屏蔽层进行第一次气相沉积,使该晶圆底 面沉积有第一电极接面;
B2、利用第二屏蔽层进行第二次气相沉积,使该第一电 极接面旁沉积有第二电极接面;
B3、于该第一、第二电极接面上方分别形成有第一、第 二金属电极;
其中该步骤B3利用喷墨印刷方式或利用第三屏蔽层以 气相沉积、网印方式形成第一、第二金属电极。
9.如权利要求8所述太阳能电池的制造方法,其中该步 骤C1与步骤B之间进一步包含有一步骤D,该步骤D于该第二 钝化层表面沉积有抗反射保护层。
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