[发明专利]光波导薄膜和光基片以及它们的制造方法有效
| 申请号： | 200810144282.7 | 申请日： | 2008-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN101359068A | 公开（公告）日： | 2009-02-04 |
| 发明（设计）人： | 程野将行;长崎国夫;山口美穗;井口伸儿 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/122 | 分类号： | G02B6/122;G02B6/13 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 张鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 波导 薄膜 光基片 以及 它们 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光波导薄膜，其特征在于，配备：
具有粘接功能的包层和被所述包层覆盖的芯层，
其中，在合层压400千巴、温度130℃装贴到硅片时，以剥离速度50毫米/ 分对硅片表面90度的方向剥离时的阻力，为0.1牛顿/20毫米以上。
2.如权利要求1中所述的光波导薄膜，其特征在于，
在将所述光波导薄膜装贴到硅片前，预先在合层压0.1千巴、温度25℃下 将所述光波导薄膜暂时装贴到硅片，
其中，在将所述光波导薄膜暂时装贴到硅片时，以剥离速度50毫米/分对 硅片表面90度的方向剥离时的阻力，为0.5牛顿/20毫米以下。
3.如权利要求1中所述的光波导薄膜，其特征在于，
所述包层包含丙烯酸树脂和/或环氧树脂。
4.如权利要求1中所述的光波导薄膜，其特征在于，
所述包层在表面具有凹凸结构。
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