[发明专利]一种显影液供给管路

说明书

技术领域

本发明涉及半导体显影工艺，特别是涉及一种显影液供给管路。

背景技术

如图1所示，传统的显影液供给管路包括显影液管路11、恒温交换 系统6、温度监测器7、温度控制器4、显影液喷嘴等装置。在传统的显 影单元中，由于E2/E3的喷嘴直径(0.4mm)非常小，且显影液与空气 结合后容易产生碳酸盐结晶，容易造成喷嘴阻塞，使得显影液从喷嘴吐出 时无法均匀的分布在晶片上，从而导致晶片显影不良或是喷嘴上的结晶物 掉到晶片上，造成产品报废。

同时，由于传统的显影液供给管路没有提供使管路清洁的装置(参见 图1)，因此管路内壁、管路接头、管路阀件及显影液喷嘴容易脏污。又 由于部分显影液管路中途没有设置恒温装置，加上管路内壁污垢，显影液 喷嘴的恒温管外壁污垢，容易导致显影液变质，造成显影能力不足。

发明内容

针对现有技术中显影液喷嘴结晶堵塞的问题，本发明的目的是提出一 种显影液供给管路，在原有显影液供给管路的基础上，增加用于清洗显影 液喷嘴的去离子水管路，使存在于喷嘴内的结晶物排出，及清洁管路内的 沉积物，从而降低显影不良的机会。

为了达到本发明的上述和其他目的，本发明提出一种显影液供给管 路，包括显影液管路、位于显影液管路前端的显影液喷嘴，以及与显影液 管路相并联的去离子水管路，该去离子水管路通过安装到显影液管路的控 制阀门连接到显影液管路。

作为优选，该去离子水管路并联到恒温交换系统和过滤器之间的显影 液供给管路上。

作为优选，该控制阀门为手动三相阀，该手动三相阀可同时用于控制 去离子水和显影液。

作为优选，该显影液喷嘴为E系列的喷嘴。

作为优选，该显影液供给管路还包括温度控制器，该温度控制器与机 台的化学制剂输入/输出板(Chemical I/O board)连接，用于感测流向显 影液喷嘴的显影液的温度。

本发明通过在原有的显影液供给管路的基础上增加去离子水管路，可 以通过提供去离子水管路的水压将显影液管路内的脏污及显影液喷嘴的 结晶物快速排出，以保持管路内壁、管路接头、管路阀件及显影液喷嘴无 污垢；同时，由于保持了显影液管路所有零配件的内外部分洁净，虽然部 分显影液管路中途没有恒温装置，但是定时的提供去离子水作清洁管路 用，不至于产生显影液变质或碳酸盐沉积，因而避免了以上现象造成显影 能力不足的问题。

附图说明

图1是传统的显影液供给管路示意图；

图2是本发明一种显影液供给管路示意图。

图3是本发明所涉及的E2喷嘴示意图；

图4是本发明所涉及的E3喷嘴示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的具体实施方式作更详细的描述。

参见图2，一种显影液供给管路，包括显影液管路11、位于显影液管 路前端的显影液喷嘴12，以及与显影液管路相并联的去离子水管路21， 该去离子水管路21通过安装到显影液管路的控制阀门3连接到显影液管 路11。该显影液管路一般具有缓冲罐(Buffer tank，用于显影液的暂存)、 Teflon管路、过滤器(Filter，用于显影液过滤)、通风机(Fan flow，用 于侦测流量)、气动阀(用于控制显影液喷涂的开关)、恒温交换系统6、 温度监测器7、喷嘴12(用于把显影液喷涂到晶片表面)等装置，该去离子 水管路21通常由Teflon管路组成。

作为优选，该去离子水管路21并联到恒温交换系统6和过滤器5之 间的显影液供给管路11上。

作为优选，该控制阀门3为手动三相阀，该手动三相阀可同时用于控 制去离子水2和显影液1。

作为优选，该手动三相阀门用于定时切换去离子水2，利用机台提供 的预喷机制，借着去离子水2的水压，将存在显影液喷嘴12内的结晶物 (碳酸盐)快速排出，以及清洗管路内的沉积物。