[发明专利]用纳米级材料作为晶体管沟道的生物传感器及其制造方法无效
申请号: | 200810149226.2 | 申请日: | 2008-09-17 |
公开(公告)号: | CN101393203A | 公开(公告)日: | 2009-03-25 |
发明(设计)人: | 李文淑;赵炳玉;柳万馨;安江崇裕;夏政焕 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G01N33/50 | 分类号: | G01N33/50 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 刘光明;穆德骏 |
地址: | 韩国京畿道水*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米 材料 作为 晶体管 沟道 生物 传感器 及其 制造 方法 | ||
1.一种生物传感器,其包括:
多个绝缘膜;
在多个绝缘膜之间的第一信号线和第二信号线;
在多个绝缘膜上的半导体纳米结构,所述半导体纳米结构具有电 连接到第一信号线的第一侧和电连接到第二信号线的第二侧;以及
耦合到所述半导体纳米结构的多个探针。
2.如权利要求1所述的生物传感器,其中所述多个绝缘膜包括具 有外部表面的外部绝缘膜,所述外部表面具有凹进区域,所述半导体 纳米结构被设置在所述凹进区域中。
3.如权利要求1所述的生物传感器,其中所述多个绝缘膜包括多 于两个的层间绝缘膜,所述第一和第二信号线通过至少一个层间绝缘 膜相互绝缘。
4.如权利要求3所述的生物传感器,其还包括:
穿过多于两个层间绝缘膜中的至少一个以电连接第一信号线和半 导体纳米结构第一侧的第一触头;和
穿过多于两个层间绝缘膜中的至少两个以电连接第二信号线和半 导体纳米结构第二侧的第二触头。
5.如权利要求4所述的生物传感器,其还包括:
连接第一触头和半导体纳米结构第一侧的第一触板,所述第一触 板的宽度大于所述第一触头的宽度;和
连接第二触头和半导体纳米结构第二侧的第二触板,所述第二触 板的宽度大于所述第二触头的宽度。
6.如权利要求1所述的生物传感器,其还包括:
与半导体纳米结构绝缘的栅线,所述栅线横穿第一和第二信号线。
7.如权利要求1所述的生物传感器,其还包括:
在半导体纳米结构上的涂覆膜。
8.如权利要求1所述的生物传感器,其还包括:
在半导体纳米结构上的表面活化层。
9.如权利要求1所述的生物传感器,其中所述半导体纳米结构包 括纳米线结构、纳米管结构和纳米颗粒结构中的至少一种。
10.如权利要求1所述的生物传感器,其中所述半导体纳米结构 包括Si、ZnO、GaN、Ge、InAs、GaAs和C中的至少一种。
11.如权利要求1所述的生物传感器,其中所述半导体纳米结构 是具有核和围绕该核的至少一个壳的多壁纳米结构。
12.一种制造生物传感器的方法,其包括:
在基板上设置半导体纳米结构;
在半导体纳米结构上形成多个绝缘膜、第一信号线和第二信号线, 所述第一信号线电连接到所述半导体纳米结构的第一侧,所述第二信 号线电连接到所述半导体纳米结构的第二侧;
通过去除基板暴露出半导体纳米结构;和
将多个探针耦合到半导体纳米结构。
13.如权利要求12所述的方法,其中去除基板包括研磨或熔融基 板。
14.如权利要求12所述的方法,其中形成多个绝缘膜、第一信号 线和第二信号线包括:
在所述半导体纳米结构上形成下部层间绝缘膜,
在所述下部层间绝缘膜上形成所述第一信号线,
在所述第一信号线上形成上部层间绝缘膜,和
在所述上部层间绝缘膜上形成所述第二信号线。
15.如权利要求14所述的方法,其还包括:
形成穿过所述下部层间绝缘膜以电连接第一信号线和半导体纳米 结构第一侧的第一触头,和
形成穿过所述下部和上部层间绝缘膜以电连接第二信号线和半导 体纳米结构的第二侧的第二触头。
16.如权利要求12所述的方法,其还包括:
形成与半导体纳米结构绝缘的栅线,所述栅线横穿第一和第二信 号线。
17.如权利要求12所述的方法,还包括:
在半导体纳米结构上提供涂覆膜。
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