[发明专利]一种电沉积制备纳米铁镀层的方法无效
| 申请号： | 200810155118.6 | 申请日： | 2008-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN101386999A | 公开（公告）日： | 2009-03-18 |
| 发明（设计）人： | 蒋林华;徐金霞;蒋俣;张浩;陈施英 | 申请（专利权）人： | 河海大学 |
| 主分类号： | C25D3/20 | 分类号： | C25D3/20;C25D5/18 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 21009*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 沉积 制备 纳米 镀层 方法 | ||
1、一种电沉积制备纳米铁镀层的方法，其特征在于该方法包括如下步骤：
(1)每升蒸馏水中加入300～450g铁盐，溶解后，调节pH值至0.5～2.0；每升再添加1～5g糖精和0.05～0.2g十二烷基硫酸钠；
(2)将步骤(1)得到的溶液倒入镀槽中，溶液温度保持在20～50℃，将镀槽置于磁场中；
(3)采用双脉冲方式，正向脉冲的占空比为25～75％，反向脉冲的占空比为5～20％，正反向脉冲频率10～50Hz，正反方向脉冲的峰值电流密度10～30A/dm2，正向脉冲电流持续时间与反向脉冲电流持续时间比20:1。
2、根据权利要求1所述的电沉积制备纳米铁镀层的方法，其特征在于步骤(1)中所述的铁盐为亚铁盐。
3、根据权利要求2所述的电沉积制备纳米铁镀层的方法，其特征在于步骤(1)中所述的铁盐为FeCl2·4H2O。
4、根据权利要求1所述的电沉积制备纳米铁镀层的方法，其特征在于步骤(2)中所述的镀槽以纯铁片为阳极，以待镀金属工件为阴极。
5、根据权利要求1所述的电沉积制备纳米铁镀层的方法，其特征在于步骤(2)中所述的磁场由电流线圈产生，电流为5～20A。
6、根据权利要求1或5所述的电沉积制备纳米铁镀层的方法，其特征在于步骤(2)中所述的磁场，其磁感应强度的方向与镀槽中阴离子移动的方向垂直或平行。
7、根据权利要求6所述的电沉积制备纳米铁镀层的方法，其特征在于步骤(2)中所述的磁场，其磁感应强度的方向与镀槽中阴离子移动的方向平行。
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