[发明专利]一种Cu-P基非晶钎料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810156562.X 申请日: 2008-10-06
公开(公告)号: CN101367159A 公开(公告)日: 2009-02-18
发明(设计)人: 邹家生;王超;赵其章;吕思聪 申请(专利权)人: 江苏科技大学
主分类号: B23K35/30 分类号: B23K35/30;C22C1/03
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 代理人: 楼高潮
地址: 212003江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 cu 基非晶钎 料及 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种Cu—P基非晶钎料及其制备方法,具体涉及一种钎焊铜及铜合金的含锆Cu-P-Sn-Ni-Si非晶钎料及其制备方法,属于非晶钎料和铜及铜合金钎焊技术领域。

背景技术

银基钎料的熔点适中,工艺性好,并具有良好的强度、韧性、导电性、导热性和抗腐蚀性,在现代工业各领域,如电子、家电、航天航空、能源、汽车制造等获得广泛应用。随着科技的发展和社会的进步,对银基钎料的需求量也日益增长,我国每年仅用于制作银基钎料方面银的消耗量达千吨以上。但银是贵金属.属于国控物资,我国每年均需进口大量白银。另外,大多数银基钎料都含有毒元素镉。为了降低成本,避免污染环境,开发节银、代银钎料一直是国内外钎焊领域的研究前沿和热点,具有较大的经济效益和社会效益。

Cu-P基钎料以其低的熔点,良好的钎焊工艺性能,特有的自钎作用(对紫铜钎焊)以及低廉的价格等优点,是一种最有希望的代Ag钎料。但Cu—P基钎料由于含有脆性化合物Cu3P,导致合金在室温下呈脆性,接头强度和韧性比银基钎料差很多,钎料加工困难,用传统方法很难制成箔带,这就导致了Cu-P基钎料应用的局限性。采用快速凝固技术制备Cu-P基非晶钎料,可以解决钎料制备成型,并提高钎料的性能。从非晶形成能力考虑,二元Cu—P系形成非晶的能力很差,加入Ni后的三元系,非晶形成能力大大增强,而再加入Sn的四元系,非晶形成能力又得到进一步增强。从Cu-P基钎料的钎焊性考虑,磷能明显降低钎料熔点,改善流动性,对紫铜具有自钎能力。但随含磷量的增加,钎料的塑性韧性则降低,在常温下加工性变差;钎料中加入镍,则提高熔点,但能改善对Fe、Co、Ni基合金的润湿性,提高接头强度和耐蚀性。钎料中加入锡,可降低熔点,改善润湿性。但使接头的强度降低。

为了获得Cu-P基非晶钎料并改善其钎焊性,必须对Cu-P基合金成分进行优化设计,兼顾合金的非晶形成能力和钎焊性,在上述基础上,再添加一定的微量元素,进一步提高Cu-P基非晶钎料的性能,从而使Cu-P基非晶钎料真正进入实用化阶段,并获得广泛应用,这是Cu-P基非晶钎料制备和铜及铜合金钎焊技术领域急待解决的技术问题。

发明内容

本发明的目的是为了解决Cu-P基钎料的室温脆性和可成型性问题。提供一种熔点低,容易加工,钎焊性能优良的非晶钎料,以扩大此类代银钎料的应用。它通过添加微量合金元素并优化Cu-P基合金成分,采用快速凝固技术制取非晶态钎料,用于钎焊铜及铜合金,保证良好的钎焊工艺性和接头力学性能。

为了实现上述目的,本发明的一种Cu—P基非晶钎料,其特征在于:该钎料的组分及含量(按质量百分比)为:P为7.0-8.0%,Ni为14.0%,Sn为5.0%,Zr为0.02-0.06%,Si为0.2%;其余为Cu,各组分质量之和为100%。

其中,上述的铜、锡和镍的纯度均为99.9%以上,锆的纯度为99.99%,均为工业级;

上述的硅、磷为铜硅、铜磷中间合金,其中,铜硅中间合金中硅的质量分数为12-18%,铜磷中间合金中磷的质量分数为10-15%,均为工业级。

制备一种Cu—P非晶钎料的方法,包括下述步骤:

1、配方:将锆、铜、锡、镍和铜硅、铜磷中间合金原材料粉碎,配比;

2、装料:将上述配料置于电弧炉中,电弧炉的5个铜坩埚,其中一个坩埚中放入一块纯Ti试样,其余四个坩埚可同时放入四种同配方或不同配方的配料;

3、抽真空:先将炉内抽真空至10-2Pa,充氩气洗炉3-4次后,再抽真空至10-2Pa,充氩气至-0.06MPa;

4、去氧:将放入坩埚中的一块纯Ti试样熔炼3-4次,以去除气氛中残留的氧;

5、熔炼:为了使铸态合金均匀,将铜坩埚内的配料在电磁搅拌作用下反复熔炼3-4次,并使用反倒拔棍翻转配料,即获得熔炼后的试样;

6、称重:对试样进行称重,若发现试样的失重在0.1%以内,则可认为合金实际成分与名义成分基本一致,即为制备的非晶钎料的母合金;

7、将母合金粉碎,装入石英玻璃管内;

8.开启炉门,将石英玻璃管夹装在甩带机的感应加热圈中,并将石英玻璃管喷嘴至铜辊表面间距调整为0.8-1mm,以保证喷射在铜辊上的液体是平板流,而形成稳定流状态;

9.关闭炉门,先采用机械泵抽真空至5.6×10-1Pa,然后用分子泵抽高真空至7.5×10-4Pa;

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