[发明专利]布图方法以及显示元件无效
| 申请号： | 200810165628.1 | 申请日： | 2008-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN101431843A | 公开（公告）日： | 2009-05-13 |
| 发明（设计）人： | 西田伸洋 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;B32B9/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 方法 以及 显示 元件 | ||
1.一种显示元件用基板的布图方法，所述显示元件用基板具有由至少1个有机区域和至少1个无机区域构成的气体阻隔层，所述布图方法的特征在于，通过使用弱酸或弱碱的蚀刻液进行湿法蚀刻来进行布图。
2.根据权利要求1所述的布图方法，其特征在于，所述蚀刻液中所包含的弱酸或者弱碱的pKa在0.5～10的范围内。
3.根据权利要求1所述的布图方法，其特征在于，所述蚀刻液选自草酸溶液、醋酸溶液、碳酸溶液和磷酸溶液、以及它们的2种以上的混合液。
4.根据权利要求1所述的布图方法，其特征在于，所述蚀刻液为草酸水溶液。
5.根据权利要求1～4任一项所述的布图方法，其特征在于，所述显示元件用基板具有透明电极，对该透明电极进行布图。
6.根据权利要求1～4任一项所述的布图方法，其特征在于，所述显示元件用基板具有阳极薄膜层，对该阳极薄膜层进行布图。
7.根据权利要求1～4任一项所述的布图方法，其特征在于，所述显示元件用基板具有ITO薄膜层，对该ITO薄膜层进行布图。
8.根据权利要求1～4任一项所述的布图方法，其特征在于，所述气体阻隔层具有至少1层有机层和至少1层无机层层叠而成的结构。
9.根据权利要求8所述的布图方法，其特征在于，所述至少1层有机层和所述至少1层无机层交替层叠。
10.一种显示元件用基板，其特征在于，使用权利要求1～9任一项所述的布图方法进行布图。
11.一种显示元件的制造方法，其特征在于，包括使用权利要求1～9任一项所述的布图方法对基板进行布图。
12.一种显示元件，其特征在于，该显示元件是通过权利要求11所述的方法制造的。
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