[发明专利]可挠式液晶显示面板及其制造方法

权利要求书

1.一种可挠式液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述可挠式液晶显示面板的制造方法包括：

形成一硬质基板，所述硬质基板包括一硬质衬底，其中所述硬质衬底的厚度约为100微米至700微米；

形成一可挠式基板，所述可挠式基板包括一可挠式衬底；以及

形成一液晶层于所述硬质基板以及所述可挠式基板之间。

2.如权利要求1所述的可挠式液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述硬质衬底的厚度约为100微米至200微米。

3.如权利要求1所述的可挠式液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述硬质衬底的材质包括玻璃或石英，其中所述可挠式衬底的材质包括聚碳酸酯、聚醚、聚萘二甲酸乙二酯或聚亚酰胺。

4.如权利要求1所述的可挠式液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述可挠式衬底的厚度约为50微米至200微米。

5.如权利要求1所述的可挠式液晶显示面板的制造方法，其特征在于，形成所述硬质基板的步骤包括：

提供所述硬质衬底；以及

形成一彩色滤光主动阵列于所述硬质衬底上。

6.如权利要求5所述的可挠式液晶显示面板的制造方法，其特征在于，形成所述可挠式基板的步骤包括：

提供一载具板；

形成所述可挠式衬底于所述载具板上；

形成一绝缘材料层于所述可挠式衬底上；

于所述绝缘材料层的上表面形成多个凸起；以及

形成一反射层于所述这些凸起上。

7.如权利要求6所述的可挠式液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述绝缘材料层的材质包括有机材料且所述反射层的材质包括金属。

8.如权利要求6所述的可挠式液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述更包括：

薄化所述硬质衬底；以及

移除所述载具板。

9.如权利要求8所述的可挠式液晶显示面板的制造方法，其特征在于，薄化所述硬质衬底的步骤是利用刻蚀法或是抛光法。

10.如权利要求6所述的可挠式液晶显示面板的制造方法，其特征在于，形成所述硬质基板的工艺温度约为220℃至700℃，且形成所述可挠式基板的工艺温度约为20℃至350℃。

11.如权利要求5所述的可挠式液晶显示面板的制造方法，其特征在于，形成所述可挠式基板的步骤包括：

提供一载具板；以及

形成所述可挠式衬底于所述载具板上，其特征在于，所述可挠式衬底是为透明，其中所述可挠式衬底的材质包括聚碳酸酯或聚醚。

12.如权利要求11所述的可挠式液晶显示面板的制造方法，更包括形成一遮光矩阵于所述可挠式衬底上。

13.如权利要求11所述的可挠式液晶显示面板的制造方法，其特征在于，形成所述硬质基板的工艺温度约为220℃至700℃，且形成所述可挠式基板的工艺温度约为20℃至200℃。

14.一种可挠式液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述可挠式液晶显示面板的制造方法包括：

形成一第一可挠式基板，包括：

    提供一第一载具板；以及

    形成一第一可挠式衬底于所述第一载具板上；

形成一第二可挠式基板，包括：

  提供一第二载具板；

  形成一第二可挠式衬底于所述第二载具板上；以及

  形成一主动阵列于所述第二可挠式衬底上；以及

  形成一液晶层于所述硬质基板以及所述可挠式基板之间。

15.如权利要求14所述的可挠式液晶显示面板的制造方法，其特征在于，形成所述第二可挠式基板的步骤更包括：

  形成一绝缘材料层于所述主动阵列上；

  于所述绝缘材料层的上表面形成多个凸起；

  形成一反射层于所述这些凸起上；以及

  形成一彩色滤光层于所述反射层上。

16.如权利要求15所述的可挠式液晶显示面板的制造方法，其特征在于，所述绝缘材料层的材质包括有机材料且所述反射层的材质包括金属。