[发明专利]使用有机溶剂通过浇铸法制备均匀磺化的聚(醚醚酮)膜的方法

权利要求书

1、一种制备PEEK电解质膜的方法，所述膜通过使用有机溶剂浇铸法被均匀地磺化。

2、根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述有机溶剂选自由N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺和1-甲基-2-吡咯烷酮组成的组中。

3、根据权利要求1所述的方法，其特征在于，PEEK聚合物具有约70,000～10,000之间的重均分子量。

4、一种制备电解质膜的方法，包括以下步骤：

a)在甲基磺酸溶液中溶解充分干燥的PEEK；

b)用硫酸稀释所制备的溶液以磺化；

c)沉淀、过滤并清洗由步骤b)获得的材料；

d)在有机溶剂中溶解由步骤c)获得的材料；和

e)固化由步骤d)获得溶液。

5、根据权利要求4所述的制备电解质膜的方法，其特征在于，步骤a)可进行以下过程，即PEEK以15～25wt％的量混合在甲基磺酸溶液中并搅拌溶解。

6、根据权利要求4所述的制备电解质膜的方法，其特征在于，步骤b)可进行以下过程，即将90～100％的硫酸水溶液以体积相对于甲基磺酸体积5～10倍量加入到步骤a)制备的溶液中，然后在氮气气氛下进行磺化。

7、根据权利要求4所述的制备电解质膜的方法，其特征在于，步骤c)可进行以下过程，即步骤b)中获得的sPEEK沉淀在过量的0℃的水中，并过滤和清洗，步骤c)进一步包括以下过程，将获得的材料在室温干燥，使干燥的材料进行研磨并将研磨后的粒子在60～100℃下保持24小时。

8、一种sPEEK质子电解质膜，根据权利要求1-7中任一项所述的方法制备。