[发明专利]基板处理装置和基板处理方法及存储介质

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

容器本体，该容器本体配置有基板的载置台，并且上部侧开口；

盖体，在其周边部分通过间隙靠近或接触该容指本体的周边部分的状态下覆盖该容器本体，从而划分形成基板的处理室；

处理气体供给部，该处理气体供给部从所述处理室的中央上部向所述载置台上的基板供给处理气体；

处理气体排气路径，该处理气体排气路径用于在将处理气体从该处理气体供给部供给到处理室内部时，从所述载置台上的比基板更靠外侧的位置对处理室的内部进行排气；

吹扫气体供给路径，该吹扫气体供给路径在所述容器本体的周边部分和所述盖体的周边部分之间，沿着所述处理室的周向开口；

流出路径，该流出路径沿着处理室的周向形成，以使从该吹扫气体供给路径供给到所述周边部分间的吹扫气体流出到处理室的外部；以及

气流流通用的间隙，该气流流通用的间隙在所述容器本体的周边部分和盖体的周边部分之间，从所述吹扫气体供给路径的开口部遍及至处理室的内部，并且沿着处理室的周向形成，其中，

来自所述处理气体供给部的处理气体的供给流量比处理气体排气路径中的排气流量小，利用这些流量之差产生的处理室内部的负压，将从所述吹扫气体供给路径供给的吹扫气体通过所述气体的流通用的间隙而被引入到处理室内部。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述容器本体的周边部分和盖体的周边部分之间，配置有用于暂时积存吹扫气体的缓冲室，其面临所述吹扫气体供给路径的开口部，并且沿着处理室的周向设置。

3.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述流出路径被设置在容器本体或盖体中，并且在所述气体的流通用的间隙中开口。

4.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述流出路径被设置在容器本体或盖体中，在所述气体的流通用的间隙中开口，并且在所述缓冲室中开口。

5.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述流出路径是从所述吹扫气体供给路径的开口部在外侧位置在容器本体的周边部分和盖体的周边部分之间形成的间隙。

6.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述处理气体排气路径从所述载置台上的比基板更靠上方侧的外侧对处理室的内部进行排气。

7.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

所述处理气体排气路径从所述载置台上的比基板更靠上方侧的外侧对处理室的内部进行排气。

8.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

所述处理气体排气路径从所述载置台上的比基板更靠上方侧的外侧对处理室的内部进行排气。

9.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

所述处理气体排气路径从所述载置台上的比基板更靠上方侧的外侧对处理室的内部进行排气。

10.一种基板处理方法，其特征在于，包括：

将基板装载在设置于上部侧开口的容器本体的内部的载置台上的步骤；

接着，在盖体的周边部分通过间隙靠近或接触所述容器本体的周边部分的状态下，利用盖体覆盖所述容器本体，从而划分形成基板的处理室的步骤；

接着，从所述处理室的中央上部对所述载置台上的基板供给处理气体的步骤；

在处理气体被供给到所述处理室的内部时，从在所述载置台上的基板的外侧设置的处理气体排气路径对处理室的内部进行排气的步骤；以及

在所述容器本体的周边部分和所述盖体的周边部分之间，从沿着该容器本体的周向开口的吹扫气体供给路径供给吹扫气体的步骤，

在向所述处理室内部供给处理气体时，使对处理室内部的处理气体的供给流量比处理气体排气路径中的排气流量小，从而利用由这些流量之差产生的处理室内部的负压，使从所述吹扫气体供给路径供给的吹扫气体在所述容器本体的周边部分和盖体的周边部分之间，从所述吹扫气体供给路径的开口部遍及至所述处理室内部，并且通过沿着处理室的周向形成的气体的流通用的间隙而形成被引入到处理室内部的状态。