[发明专利]刷组件以及具有该刷组件的基片清洗装置有效
申请号: | 200810169948.4 | 申请日: | 2008-10-10 |
公开(公告)号: | CN101409224A | 公开(公告)日: | 2009-04-15 |
发明(设计)人: | 申在奫;李晟熙 | 申请(专利权)人: | 细美事有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;B08B1/04;B08B7/04;B08B3/04 |
代理公司: | 上海恩田旭诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 洪 磊 |
地址: | 韩国忠南天安*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组件 以及 具有 清洗 装置 | ||
1.一种刷组件,包括:
可旋转轴;
设在所述轴的中部以清洗基片的刷子,所述刷子被带到与所述基片的表面接触,并且清洗溶液被供给至所述刷子上;及
安装在所述可旋转轴的一端部的喷吹单元,其生成气流以防止在清洗所述基片时供给至所述刷子上的所述清洗溶液沿着所述轴流向所述轴的端部,
其中所述喷吹单元包括:
安装在所述轴的所述端部的毂体,并且所述毂体具有朝向所述刷子倾斜的截头圆锥形状;及
多个螺旋形叶片,其设在所述毂体的圆周表面上以生成所述气流。
2.如权利要求1所述的刷组件,还包括第二喷吹单元,其安装在所述可旋转轴的另一端部以生成朝向所述刷子的第二气流。
3.一种清洗基片的装置,包括:
提供清洗空间以清洗所述基片的处理室;
刷组件,其包括:
设在所述处理室中的可旋转轴;
设在所述轴的中部以清洗所述基片的刷子,所述刷子被带到与所述基片的表面接触,并且清洗溶液被供给至所述刷子上;及
安装在所述可旋转轴的一端部的喷吹单元,其生成气流以防止在清洗所述基片时供给至所述刷子上的所述清洗溶液沿着所述轴流向所述轴的端部,其中所述喷吹单元包括安装在所述轴的所述端部的毂体,并且所述毂体具有朝向所述刷子倾斜的截头圆锥形状;及多个螺旋形叶片,其设在所述毂体的圆周表面上以生成所述气流;以及
与所述刷组件的所述轴连接以旋转所述刷组件的驱动部。
4.如权利要求3所述的装置,其中所述轴延伸穿过所述处理室的侧壁,并且所述驱动部与所述轴的所述端部连接,所述端部位于所述处理室的外部。
5.如权利要求4所述的装置,还包括收集室,其设在所述处理室中以容纳所述喷吹单元并且收集从所述轴滴落的所述清洗溶液。
6.一种清洗基片的装置,包括:
提供清洗空间以清洗所述基片的处理室;
在所述处理室中设在上方及下方并且水平地、互相平行地延伸的上部刷组件与下部刷组件,以清洗所述基片的上表面与下表面;
与所述这些刷组件连接以旋转所述这些刷组件的驱动部,
其中所述这些刷组件中的每一个包括:
设在所述处理室中的可旋转轴;
设在所述轴的中部以清洗所述基片的刷子,所述刷子被带到与所述基片接触,并且清洗溶液被供给至所述刷子上;及
安装在所述可旋转轴的一端部的喷吹单元,其生成气流以防止在清洗所述基片时供给至所述刷子上的所述清洗溶液沿着所述轴流向所述轴的端部,其中所述喷吹单元包括安装在所述轴的所述端部的毂体,并且所述毂体具有朝向所述刷子倾斜的截头圆锥形状;及多个螺旋形叶片,其设在所述毂体的圆周表面上以生成所述气流;并且
所述下部刷组件的所述喷吹单元设置为比所述上部刷组件的所述喷吹单元更靠外侧。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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