[发明专利]刷组件以及具有该刷组件的基片清洗装置

说明书

技术领域

本发明主要涉及一种清洗基片的装置。本发明尤其涉及一种用于清洗基片的刷组件，以及具有该刷组件的基片清洗装置。

背景技术

集成电路、平板显示装置之类的半导体器件一般经由各种工艺而制得。例如，在半导体基片或玻璃基片上进行一系列的单元工艺，诸如沉积工艺、蚀刻工艺、以及清洗工艺等。具体的，可进行该清洗工艺以去除基片上的杂质。

例如，进行清洗工艺的装置可包括刷子以从基片去除颗粒、有机污染物之类的杂质。该刷子设在可转动的轴上，并且可与该基片的表面直接接触以清洗该基片。

该刷子主要包括多个由尼龙制成的刷毛。然而，当该刷子在干燥状态下与该基片的表面直接接触时，会对该刷子及该基片造成损坏。具体的，该损坏的刷子会在该基片上形成擦伤。

为了解决上述的问题，会在该刷子上施加清洗溶液。这样，该清洗溶液用作该刷子与该基片之间的润滑剂，并且可防止该刷子与该基片受到损坏。

然而，施加在该刷子上的该清洗溶液会沿着轴流动，并且会泄漏出进行基片清洗工艺的腔室外。这样，该泄漏的清洗溶液会污染旋转该轴的驱动部件、可旋转地对该轴进行支撑的轴承等。

发明内容

本发明提供一种能够防止供给至刷子的清洗溶液沿着轴流动的刷组件。

此外，本发明提供一种清洗基片的装置，其具有能够防止供给至刷子的清洗溶液沿着轴流动的刷组件。

根据本发明一个方面的刷组件包括可旋转轴；设在所述轴中部以清洗基片的刷子，所述刷子被带到与所述基片的表面接触，并且清洗溶液被供给至所述刷子上；以及喷吹单元，其生成气流以防止在清洗所述基片时供给至所述刷子上的所述清洗溶液沿着所述轴流向所述轴的端部。

根据本发明的一些实施例，所述喷吹单元包括安装在所述轴的一部分上的圆柱形毂体，以及多个螺旋形叶片，其设在所述毂体的圆周表面上以生成所述气流。

根据本发明的一些实施例，所述毂体具有朝向所述刷子倾斜的截头圆锥形状。

根据本发明的一些实施例，所述刷组件还包括第二喷吹单元，其安装在另一端部以生成朝向所述刷子的第二气流。

根据本发明另一方面的基片清洗装置，包括处理室、刷组件、以及驱动部。所述处理室提供清洗空间以清洗所述基片，所述刷组件包括设在所述处理室中的可旋转轴；设在所述轴的中部以清洗所述基片的刷子，所述刷子被带到与所述基片的表面接触，并且清洗溶液被供给至所述刷子上；喷吹单元，其生成气流以防止在清洗所述基片时供给至所述刷子上的所述清洗溶液沿着所述轴流向所述轴的端部。所述驱动部与所述刷组件的所述轴连接以旋转所述刷组件。

根据本发明的一些实施例，所述轴穿过所述处理室的侧壁，并且所述驱动部与位于所述处理室外部的所述轴的端部连接。

根据本发明的一些实施例，所述装置还包括收集室，其设在所述处理室中以容纳所述喷吹单元并且收集从所述轴滴落的所述清洗溶液。

根据本发明的一些实施例，所述喷吹单元包括安装在所述轴的一部分上的圆柱形毂体，以及多个螺旋形叶片，其设在所述毂体的圆周表面上以生成所述气流。

根据本发明的一些实施例，所述毂体具有朝向所述刷子倾斜的截头圆锥体形状。

根据本发明再一方面的基片清洗装置，包括处理室、上部刷组件与下部刷组件、以及驱动部件。所述处理室提供清洗空间以清洗所述基片。所述上部刷组件与下部刷组件在所述处理室中设在上方及下方且水平地、互相平行地延伸，以清洗所述基片的上表面与下表面，并且所述驱动部与所述这些刷组件连接以旋转所述这些刷组件。在此，所述这些刷组件中的每一个包括设在所述处理室中的可旋转轴；设在所述轴的中部以清洗所述基片的刷子，所述刷子被带到与所述基片接触，并且清洗溶液被供给至所述刷子上；以及喷吹单元，其生成气流以防止在清洗所述基片时所述供给至所述刷子上的清洗溶液沿着所述轴流向所述轴的端部。所述下部刷组件的所述喷吹单元设置为比所述上部刷组件的所述喷吹单元更靠外侧。

根据本发明的实施例，刷组件可包括喷吹单元以生成气流，从而防止供给至刷子上的清洗溶液沿着轴流动。由此，可防止所述清洗溶液沿着所述轴泄漏出处理室，并且防止对旋转所述刷组件的驱动部、可旋转地支撑所述轴的轴承等造成污染。

附图说明

结合附图，参考下文的详细描述，可清楚地了解本发明的实施例，其中：

图1为示出根据本发明实施例的刷组件的立体图；

图2为示出图1所示的刷组件的主视图；

图3为示出具有图1所示刷组件的基片清洗装置的示意图。

具体实施方式