[发明专利]硅-氧化物-氮化物-氧化物-硅型与非门闪存的擦除法有效

专利信息
申请号: 200810170343.7 申请日: 2008-10-16
公开(公告)号: CN101692350A 公开(公告)日: 2010-04-07
发明(设计)人: 吕函庭 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: G11C16/04 分类号: G11C16/04;G11C16/14
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周国城
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 氧化物 氮化物 与非门 闪存 除法
【权利要求书】:

1.一种操作一介电电荷捕捉存储单元的方法,该介电电荷捕捉存储 单元具有一阈值电压且包括一衬底,该衬底包括一沟道区、位于该沟道区 上的一介电电荷捕捉结构以及位于该介电电荷捕捉结构上的一栅极,其特 征在于,该方法包括:

在一预定期间内,由该栅极至该存储单元的该衬底之间施加一初始电 压,以降低该存储单元的该阈值电压;以及

由该栅极至该存储单元的该衬底之间施加一连串的电压,以进一步降 低该存储单元的该阈值电压,其中该一连串的电压中的一后续电压的大小 是小于该一连串的电压中的一先前电压的大小。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,该施加一初始电压的 步骤与该施加一连串的电压的步骤是可诱发由该衬底至该介电电荷捕捉 结构的富勒-诺丁汉空穴隧穿,以降低该存储单元的该阈值电压。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,该施加一连串的电压 的步骤包括降低该一连串的电压中相连续的电压间的该电压大小。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,该施加一连串的电压 的步骤更包括:

于该一连串的电压中相连续的电压间改变该栅极的电压并维持该衬 底的电压,或者

于该一连串的电压中相连续的电压间改变该衬底的电压并维持该栅 极的电压。

5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,该施加一连串的电压 的步骤更包括:

由该栅极至该衬底之间施加该一连串的电压中的一第一电压,其中该 第一电压的大小为该初始电压减去一预定电压值;以及

于该第一电压施加后,由该栅极至该衬底之间施加该一连串的电压中 的个别电压,该个别电压的大小为该一连串的电压中一紧邻在先电压的大 小减去该预定电压值。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,该施加一连串的电压 的步骤更包括:在该预定期间内,施加该一连串的电压中的每一个电压。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于:

由该栅极至该衬底的该初始电压介于-10至-20伏特;

该预定电压值介于0.2至1.0伏特;以及

该预定期间介于0.5至3毫秒。

8.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,该施加一连串的电压 的步骤更包括:

在第一段期间内,由该栅极至该衬底之间施加该一连串的电压中的该 第一电压,该第一段期间为该预定期间加上一第二预定期间;以及

于该第一电压施加后,在第二段期间内施加该一连串的电压中的个别 电压,此第二段期间为该一连串的电压中一紧邻在先电压的施加期间加上 该第二预定期间。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于:

由该栅极至该衬底的该初始电压介于-10至-20伏特;

该预定电压值介于0.2至1.0伏特;

该预定期间介于0.5至3毫秒;以及

该第二预定期间介于0.5至2毫秒。

10.一种存储器元件,其特征在于,包括:

一介电电荷捕捉存储单元,其具有一阈值电压且包括一衬底,该衬底 包括一沟道区、位于该沟道区上的一介电电荷捕捉结构以及位于该介电电 荷捕捉结构上的一栅极;以及

一偏压调整状态机构,用以施加一偏压配置以调整该存储单元,该偏 压配置包括:

一初始电压,是由该栅极至该存储单元的该衬底之间进行施加一预定 期间,以降低该存储单元的该阈值电压;以及

一连串的电压,是由该栅极至该存储单元的该衬底之间进行施加,以 进一步降低该存储单元的该阈值电压,其中该一连串的电压中的一后续电 压的大小是小于该一连串的电压中的一先前电压的大小。

11.根据权利要求10所述的元件,其特征在于,该偏压配置是可诱 发由该衬底至该介电电荷捕捉结构的富勒-诺丁汉空穴隧穿,以降低该存储 单元的该阈值电压。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司,未经旺宏电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810170343.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top