[发明专利]有机EL显示装置及其制造方法有效
申请号: | 200810172859.5 | 申请日: | 2008-11-05 |
公开(公告)号: | CN101431147A | 公开(公告)日: | 2009-05-13 |
发明(设计)人: | 松崎永二;石井良典;加濑悟 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立显示器 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/54;H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 王茂华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 el 显示装置 及其 制造 方法 | ||
1.一种有机EL显示装置,通过具有SiNxOy膜的保护层覆盖着有机EL元件,该有机EL元件是在形成有电路的第一衬底上依次层叠第一电极、包含发光层的有机层以及第二电极而形成的,
该有机EL显示装置的特征在于:
所述SiNxOy膜与所述第二电极接触;
所述SiNxOy膜的Si-O-Si伸缩振动吸收峰值在比1000cm-1更低能量一侧存在,在约870cm-1附近存在的Si-N伸缩振动吸收峰值的吸收强度是所述Si-O-Si伸缩振动吸收峰值的吸收强度的0.75倍以上;
所述SiNxOy膜具有在2000~4000cm-1区域的吸收峰值的强度为所述Si-N伸缩振动吸收峰值的吸收强度的5%以下的红外吸收特性。
2.根据权利要求1所述的有机EL显示装置,其特征在于:
所述SiNxOy膜包含Ar、Ne、He中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的有机EL显示装置,其特征在于:
所述保护层具有层叠在所述SiNxOy膜上的氧化镁膜。
4.根据权利要求1所述的有机EL显示装置,其特征在于:
所述保护层在所述SiNxOy膜上层叠了氧化镁膜,进而又层叠了所述SiNxOy膜。
5.根据权利要求3所述的有机EL显示装置,其特征在于:
所述氧化镁膜包含Ar、Ne、He中的至少一种。
6.根据权利要求3所述的有机EL显示装置,其特征在于:
在所述氧化镁膜的红外吸收频谱的3400~3500cm-1区域和3600cm-1附近观察到的O-H振动吸收峰值的吸光度log(1/透过率)除以所述氧化镁膜的膜厚得到的值是0.08μm-1以下。
7.根据权利要求3所述的有机EL显示装置,其特征在于:
在所述氧化镁膜的红外吸收频谱的3700cm-1附近观察到的Mg-OH振动吸收峰值的吸光度log(1/透过率)除以所述氧化镁膜的膜厚得到的值是0.08μm-1以下。
8.根据权利要求3所述的有机EL显示装置,其特征在于:
所述氧化镁膜表现(111)结晶取向性,在X射线衍射频谱中,所述氧化镁膜的(200)取向的第一衍射峰值强度I1与所述氧化镁膜的(111)取向的第二衍射峰值强度I2之比I1/I2为1以下。
9.根据权利要求3所述的有机EL显示装置,其特征在于:
所述氧化镁膜的O/Mg比是0.95~1.1。
10.一种有机EL显示装置,通过具有SiNxOy膜的保护层覆盖着有机EL元件,该有机EL元件是在形成有电路的第一衬底上依次层叠第一电极、包含发光层的有机层以及第二电极而形成的,
该有机EL显示装置的特征在于:
所述SiNxOy膜与所述第二电极接触;
所述SiNxOy膜的Si-O-Si伸缩振动吸收峰值在比1000cm-1更低能量一侧存在,在约870cm-1附近存在的Si-N伸缩振动吸收峰值的吸收强度是所述Si-O-Si伸缩振动吸收峰值的吸收强度的0.75倍以上;
所述SiNxOy膜具有在2000~4000cm-1区域的吸收峰值的强度是所述Si-N伸缩振动吸收峰值的吸收强度的5%以下的红外吸收特性;
在所述保护层之上层叠有树脂薄板,在所述树脂薄板上层叠有第二衬底。
11.根据权利要求10所述的有机EL显示装置,其特征在于:
所述树脂薄板具有吸水性的性质。
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