[发明专利]用于分析干式化学测试元件的方法和装置

说明书

技术领域

本发明涉及用于分析干式化学测试元件的方法和装置，尤其免疫测试元件。

背景技术

本技术用于化验(assay)装载干式化学测试元件的一种或多种分析物。为此目的，在测试元件上形成多个化验区域，如条形、圆形或方形，根据化验所需液体样品的用量在这些区域积聚一种或多种分析物(如US6,707,554B1)。通常分析物直接被标记，从而以备随后干式化学测试元件的光学分析。干式化学测试元件的准备还可以包括利用缓冲溶液、稀释液或洗涤液洗涤或冲洗。最后，干式化学测试元件可以通过光学扫描而被分析，从而确定测试元件的化验区中一种或多种特定分析物的存在。

光学扫描过程中，扫描化验区产生的测量光束离开化验区后可通过检测器检测。通过施加测试光束产生测量光束，其一部分利用合适的单色或多色光源产生，在所述化验区载有待测光活性物质。在化验区，测试光束的光与光活性物质相互作用，导致测试光束的光学性质发生相应的变化，作为测量光束离开化验区。当施加测试光束时，透射、反射或荧光都可用于分析测量光束的光学性质。测量光束也可以基于化验区的光活性物质的发光。

随着测量光束离开各自的化验区后测量光强度可能会随分析的化验区的不同而不同。例如，测试光束在各自化验区产生的荧光会以不同的强度发出，这可是例如待测分析物浓度的指示。发出的测量光强度与观察的化验区的光吸收范围尤其相关。如荧光化验，它的范围与荧光分子浓度尤其相关。

干式化学测试元件的光学扫描期间，通过例如测试元件和检测器装置来检测测量光束，或测试光束和光源可相对于彼此而替换，从而光学分析一个又一个化验区。根据已知的光学扫描程序，在开始扫描前设定某些扫描参数，然后开始扫描。通常设定检测器装置的恒定扫描速度和曝光时间。如果从干式化学测试元件上的化验区发射强度不同的测量光，会产生有的区域测量光强度较低的问题，一般对应于较低浓度的待测分析物，一些情况下，扫描速度过高而实际上不能收集到适于分析物的检测信号。在其他有较大浓度分析物的区域，离开化验区的测量光束的光强度又太高而使当前扫描速度下检测器装置超负荷。

发明内容

本发明的目的在于提供在一种用于分析干式化学测试元件的方法和装置，其中即便在载有待测光活性物质的检测元件的化验区具有不同光学活性时也能够利用光学扫描实现优化分析。

根据本发明，通过独立权利要求1的用于分析干式化学测试元件的方法和独立权利要求12的用于分析干式化学测试元件的装置实现本发明的目的。也提供了用于进行诊断药物测试的方法和装置。本发明的优选实施例形成了从属权利要求中的主要内容。

根据本发明的一个方面，这里提供一种分析干式化学测试元件的方法，尤其免疫学测试元件，其中利用光学扫描分析干式化学测试元件，由此，测量光束离开测试元件的化验区，所述化验区载有一种或多种固定的光活性物质，利用检测器装置检测各测量光强度，所述的方法包括以下步骤：第一化验区光学扫描过程中，具有第一测量光强度的测量光束离开该第一化验区，根据扫描参数的第一设置选择扫描参数，对检测器装置的工作范围和照射到检测器装置的测量光束的第一光量，相对于彼此进行调整，和第二化验区光学扫描过程中，具有区别于第一测量光强度的第二测量光强度的测量光束离开第二化验区，根据区别于扫描参数的第一设置的扫描参数的第二设置选择扫描参数，对检测器装置的工作范围和照射到检测器装置的测量光束的第二光量，相对于彼此进行调整。

根据本发明另一个的方面，提供了一种用于通过光学扫描分析干式化学测试元件的装置，尤其免疫学测试元件，该装置包括：支架，用于保持用于光学扫描分析的干式化学测试元件，检测器装置，用于检测离开化验区的测量光束，所述化验区载有一种或多种固定的光活性物质，并具有相应的测量光强度，和控制装置，用于按如下方式控制干式化学测试元件的光学扫描：第一化验区光学扫描过程中，具有第一测量光强度的测量光束离开该第一化验区，根据扫描参数的第一设置选择扫描参数，对检测器装置的工作范围和照射到检测器装置的测量光束的第一光量，相对于彼此进行调整，和第二化验区光学扫描过程中，具有区别于第一测量光强度的第二测量光强度的测量光束离开第二化验区，根据区别于扫描参数的第一设置的扫描参数的第二设置选择扫描参数，对检测器装置的工作范围和照射到检测器装置的测量光束的第二光量，相对于彼此进行调整。