[发明专利]微机电元件、出平面传感器与微机电元件制作方法

权利要求书

1.一种微机电元件，其特征在于，包含：

一质量块，其包括主质量部分和位于主质量部分两侧且与主质量 部分连接的两电容板结构部分，其中该两电容板结构部分位于不同的 高度；

一上电极，位于该两电容板结构部分之一的上方，与其构成电容， 以及

一下电极，位于该两电容板结构部分的另一者的下方，与其构成 另一电容，

其中该上、下电极在水平方向上错开；

其中，该质量块还包括：分别与该两电容板结构部分的另一侧连 接的两外侧质量部分。

2.如权利要求1所述的微机电元件，其中，该主质量部分、两电 容板结构部分、和两外侧质量部分互相紧密连结成一体。

3.如权利要求1所述的微机电元件，其中，该两电容板结构部分 的另一侧连接的两外侧质量部分仅于一处或数处相连。

4.一种出平面传感器，包含多个微机电结构单位，其特征在于， 每一个微机电结构单位包括：

一质量块，其包括主质量部分和位于主质量部分两侧且与主质量 部分连接的两电容板结构部分，其中该两电容板结构部分位于不同的 高度；

一上电极，位于该两电容板结构部分之一的上方，与其构成电容， 以及

一下电极，位于该两电容板结构部分的另一者的下方，与其构成 另一电容，

其中该上、下电极在水平方向上错开；

其中，该质量块还包括：分别与该两电容板结构部分的另一侧连 接的两外侧质量部分。

5.一种微机电元件的制作方法，其特征在于，包含：

提供一个基板，

在该基板上沉积并定义接触层、金属层与通道层，在该接触层、 金属层与通道层图案中包含一待蚀刻区域；以及

去除该待蚀刻区域，而形成如权利要求1所述的微机电元件。

6.如权利要求5所述的微机电元件的制作方法，其中，该待蚀刻 区域是以氧化物制作。

7.如权利要求6所述的微机电元件的制作方法，其中，该去除待 蚀刻区域的步骤包含：先进行非等向性反应式离子蚀刻，再使用氢氟 酸蒸气蚀刻或缓冲氧化物蚀刻方式进行第二次蚀刻。