[发明专利]膜形成方法及电光装置

权利要求书

1.一种膜形成方法，其在基材的涂敷区域涂敷材料液，并使所述材 料液干燥而形成膜，所述膜形成方法的特征在于，具有：

隔壁形成工序，其在所述涂敷区域形成框状的隔壁；

材料液涂敷工序，其以覆盖所述隔壁的方式在所述涂敷区域涂敷所述 材料液；

干燥工序，其使所述材料液干燥，

其中，在所述隔壁形成工序中，在比所述涂敷区域的外缘靠所述涂敷 区域的中央侧，形成所述隔壁的所述中央侧的侧面，以所述隔壁的高度小 于所述材料液涂敷工序中的所述材料液的膜厚且大于干燥后的所述膜的 膜厚的方式形成所述隔壁。

2.如权利要求1所述的膜形成方法，其特征在于，

在所述隔壁形成工序中，从所述中央侧向所述外缘侧多重形成多个所 述隔壁。

3.如权利要求1所述的膜形成方法，其特征在于，

在所述隔壁形成工序中，涂敷所述材料液并使其干燥，从而形成由所 述材料液构成的所述隔壁。

4.如权利要求1所述的膜形成方法，其特征在于，

在所述材料液涂敷工序中，使用液滴喷出法来涂敷所述材料液。

5.如权利要求1所述的膜形成方法，其特征在于，

所述膜是对液晶分子的取向加以限制的取向膜。

6.一种电光装置，其通过在对置的一对基板间夹持电光材料而成， 所述电光装置的特征在于，

利用权利要求1所述的膜形成方法，在所述基板的所述电光材料侧的 表面上形成所述膜。