[发明专利]制造垂直沉积掩模的方法和设备有效
申请号: | 200810176343.8 | 申请日: | 2008-11-20 |
公开(公告)号: | CN101538698A | 公开(公告)日: | 2009-09-23 |
发明(设计)人: | 洪钟元;姜有珍;朴时映 | 申请(专利权)人: | 三星SMD株式会社 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;G03F1/16 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人: | 郭鸿禧;罗延红 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 垂直 沉积 方法 设备 | ||
1.一种用于制造垂直沉积掩模的设备,所述设备包括:
拉紧装置,用于拉紧掩模片,所述拉紧装置包括多个夹具和多个拉紧件,所述多个夹具用于支撑掩模片,所述多个拉紧件结合到所述多个夹具,用于向所述多个夹具施加拉力并用于通过所述多个夹具将掩模片平坦地固定在适当的位置;
焊接机,用于将掩模框附着到掩模片的周围;
掩模片竖直传输装置,用于将直立的掩模片传输到拉紧装置,
其中,所述掩模片竖直传输装置包括用于传输掩模片的第一载具、位于第一载具的一侧以吸附掩模片的第一吸附构件、用于沿第一方向朝拉紧装置移动第一载具的第一导轨以及结合在第一载具和第一导轨之间的用于使第一载具下降90度和升起90度的第一板。
2.如权利要求1所述的用于制造垂直沉积掩模的设备,还包括在夹具和拉紧件之间的用于测量夹具的拉力的拉力测量器。
3.如权利要求2所述的用于制造垂直沉积掩模的设备,其中,所述拉力测量器包括:
压电传感器,用于感测夹具的拉力变化;
电-气调节器,当测量的夹具的拉力与预设值不同时,所述电-气调节器用于控制供应到拉紧件的气动压力。
4.如权利要求1所述的用于制造垂直沉积掩模的设备,还包括用于将直立的掩模框传输到拉紧装置的掩模框竖直传输装置,
其中,所述掩模框竖直传输装置包括:
第二载具,用于传输掩模框;
第二吸附构件,位于第二载具的一侧以吸附掩模框;
第一导轨,用于沿与第一方向相反的第二方向朝拉紧装置移动第二载具;
第二板,结合在第二载具和第一导轨之间,用于使第二载具下降90度和升起90度。
5.如权利要求1所述的用于制造垂直沉积掩模的设备,其中,掩模片竖直传输装置还包括用于使第一载具沿与第一方向垂直的第三方向朝拉紧装置移动的第二导轨。
6.如权利要求1所述的用于制造垂直沉积掩模的设备,其中,用于吸附掩模片的至少一个吸附孔在第一吸附构件的表面上。
7.如权利要求4所述的用于制造垂直沉积掩模的设备,还包括结合构件,所述结合构件用于将掩模片竖直传输装置和掩模框竖直传输装置彼此结合,并用于使掩模片竖直传输装置和掩模框竖直传输装置联动地移动。
8.如权利要求4所述的用于制造垂直沉积掩模的设备,其中,掩模框竖直传输装置还包括用于使第二载具沿与第一方向和第二方向垂直的第三方向朝拉紧装置移动的第三导轨。
9.如权利要求4所述的用于制造垂直沉积掩模的设备,其中,第一导轨是引导件,所述引导件具有一对彼此平行地从掩模片竖直传输装置的下表面向掩模框竖直传输装置的下表面延伸的槽。
10.如权利要求4所述的用于制造垂直沉积掩模的设备,其中,第二吸附构件包括:
至少一个吸附孔,用于吸附玻璃基底;
掩模框吸引装置,用于将掩模框吸附到玻璃基底的周围。
11.如权利要求10所述的用于制造垂直沉积掩模的设备,其中,用于将掩模片和掩模框对准的至少一个对准标记在玻璃基底上。
12.如权利要求10所述的用于制造垂直沉积掩模的设备,其中,还在第二吸附构件中设置多个掩模框固定块,以防止吸附到掩模框吸引装置的掩模框分离。
13.如权利要求12所述的用于制造垂直沉积掩模的设备,其中,朝掩模框固定块的外部突出的圆柱设置在掩模框固定块中。
14.如权利要求1所述的用于制造垂直沉积掩模的设备,其中,焊接机是激光焊接机。
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