[发明专利]制造垂直沉积掩模的方法和设备

说明书

本申请要求于2007年11月20日提交到韩国知识产权局的第10-2007-0118787号韩国专利申请的优先权，该申请的全部内容通过引用包含于此。

技术领域

本发明涉及一种垂直沉积掩模(vertical deposition mask)及其制造，更具体地说，本发明涉及一种防止掩模下垂的制造垂直沉积掩模的方法及设备。

背景技术

通常，在制造发光显示器时，掩模被用来沉积具有预定图案的层。即，当沉积诸如有机层的层时，利用具有特定图案的孔的掩模，在基底上形成具有对应于孔的图案的层。

掩模由具有预定强度的金属形成，以保持特定图案的孔的形状，在水平地放置其上提供有掩模的基底之后执行沉积工艺。

然而，由于掩模的重量，掩模的中心会下垂并且在沉积工艺过程中在沉积在基底上的层的图案中产生差错。

由于随着在其上执行沉积的基底的尺寸增加，对应于基底尺寸的掩模尺寸也增加，从而由于掩模的重量，掩模的中心显著地下垂，所以当沉积大面积基底时，该问题变得严重。

图1是示出传统地制造的掩模片和掩模的透视图，掩模框焊接到所述掩模。图2示出了图1的掩模的下垂。

参照图1和图2，掩模10包括掩模片11和掩模框13，在掩模片11中形成有预定图案的孔，掩模框13用于固定掩模片11。

通过利用掩模制造设备将掩模片11和掩模框13焊接来制造掩模10。

即，掩模制造设备通过夹具(未示出)来固定掩模片11的边缘，将由夹具固定在适当的位置的掩模片11附着到掩模框13，并将附着的区域焊接以制造掩模。

在传统技术中，掩模制造设备在水平放置掩模片11和掩模框13之后执行焊接。然而，如图2所示，由于掩模片11的负荷，所以制造的掩模10会在平面方向下垂。

因此，掩模片11和掩模框13之间的焊接线不是形成直线14而是形成曲线15。结果，形成在掩模片11中的孔12的位置没有按照所期望的来形成。

这样，使用掩模10，并没有在基底上均匀地形成薄膜图案，并且形成在基底上的薄膜的位置没有形成在基底上的期望位置中。

发明内容

根据本发明，提供了一种用于制造垂直沉积掩模的设备，所述设备能提供与平面垂直的掩模片和掩模框的焊接。当制造对应于基底的掩模时，尤其是当在其上执行沉积的基底的面积增大时，所述设备防止大面积掩模由于掩模的重量而下垂。

还提供了一种用所述设备制造垂直沉积掩模的方法。

再根据本发明，所述用于制造垂直沉积掩模的设备包括：拉紧装置，用于拉紧将被固定到掩模框的适当的位置的掩模片；焊接机，用于将掩模框附着到掩模片的周围。拉紧装置包括：多个夹具，用于支撑掩模片；多个拉紧件，结合到夹具以向夹具施加拉力并通过夹具将掩模片平坦地固定在适当的位置。

还可在夹具和拉紧件之间提供用于测量夹具的拉力的拉力测量器。拉力测量器可包括用于感测夹具的拉力变化的压电传感器以及当测量到的夹具的拉力与预设值不同时用于控制供应到拉紧件的气动压力的电-气调节器。

此外，垂直沉积掩模制造设备还可包括掩模片竖直传输装置，以将直立的掩模片传输到拉紧装置。掩模片竖直传输装置可包括用于传输掩模片的第一载具。第一吸附构件位于第一载具的一侧以吸附掩模片。设置第一导轨以使第一载具沿第一方向朝拉紧装置移动。第一板结合在第一载具和第一导轨之间以使第一载具下降90度和升起90度。此外，还可形成用于使第一载具沿与第一方向垂直的第二方向朝拉紧装置移动的第二导轨。可在第一吸附构件的前表面上形成至少一个用于吸附掩模片的吸附孔。

此外，垂直沉积掩模制造设备还可包括掩模框竖直传输装置，以将直立的掩模框传输到拉紧装置。掩模框竖直传输装置可包括用于传输掩模框的第二载具。第二吸附构件位于第二载具的一侧以吸附掩模框。设置第一导轨以使第二载具沿与第一方向相反的第二方向朝拉紧装置移动。第二板结合在第二载具和第一导轨之间以使第二载具下降90度和升起90度。还可形成用于使第二载具沿与第一方向和第二方向垂直的第三方向朝拉紧装置移动的第三导轨。第一导轨可由引导件形成，在该引导件中，形成有一对彼此平行地从掩模片竖直传输装置的下表面向掩模框竖直传输装置的下表面延伸的槽。此外，第二吸附构件可包括至少一个用于吸附玻璃基底的吸附孔以及用于将掩模框吸附到玻璃基底的周围的掩模框吸引装置。