[发明专利]抗静电光学膜无效
| 申请号： | 200810177005.6 | 申请日： | 2008-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN101738646A | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | 陈毓淞;吴明旗;赖品诚 | 申请（专利权）人： | 迎辉科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;G02B5/04 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 抗静电 光学 | ||
【权利要求书】：
1.一种抗静电光学膜，包含：一个基材以及一层设置在该基材的表面的抗静电层，其特征在于，
该基材具有一个第一阻抗值R1，该抗静电层具有一个第二阻抗值R2，且R2＜1013Ω/mm2，R1/R2＜1010。
2.根据权利要求1所述的抗静电光学膜，其特征在于，所述R2＜1012Ω/mm2。
3.根据权利要求1所述的抗静电光学膜，其特征在于，该基材包括一个基材部，所述基材部具有反向间隔的一个第一表面以及一个第二表面，该抗静电层设置在该第一表面，而该基材还包括一个设置在该第二表面并使光线偏折射出的集光部。
4.根据权利要求1所述的抗静电光学膜，其特征在于，该抗静电层包括一个设置在该基材表面的抗静电部，以及一个位于该抗静电部表面并使光线偏折射出的集光部。
5.根据权利要求1所述的抗静电光学膜，其特征在于，该抗静电层包括多个使光线偏折射出的集光结构。
6.根据权利要求1所述的抗静电光学膜，其特征在于，该抗静电层的硬度大于或等于1H。
7.根据权利要求1至3任一项所述的抗静电光学膜，其特征在于，该抗静电层具有光扩散作用。
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