[发明专利]抗静电光学膜

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学膜，特别涉及一种具有集光或光线雾化扩散等功能，而且兼具抗静电作用的光学膜。

背景技术

一般的光学膜，例如具有集光作用的楞镜膜，或者是兼具集光与光扩散效果的双重功能光学膜，其表面贴覆一层保护膜，防止光学膜在运送过程中因为碰撞产生损害。而上述光学膜使用前，必须将保护膜由光学膜表面撕除，导致保护膜与光学膜之间因摩擦而产生静电现象，经常使得操作人员被静电电到，而且静电的存在将使光学膜表面容易吸附灰尘，进而影响光学膜品质并污染电子装置模组。此外，前述膜片除了撕除保护膜时容易出现静电现象之外，后续在搬运过程或整体背光模组的组装过程中，也有极大可能会因为多片光学膜之间相互磨擦而产生静电现象。

因此，目前有一种光学膜，直接于其光学微结构中添加抗静电材料(抗静电材料前案例如：TWM295745、TW200540472、TW200500720、TWI238172、TW200514688、TW200736294、TW200736353、TW200824906、TW200420426)，或者是于光学膜表面直接涂布成型一层添加有抗静电材料的抗静电层(抗静电膜前案例如：US2004209007、2004228141、US2005094273、US2005257363、US2005275764、US2006018026、WO0591063、WO06026743)，借此使光学膜的其中一表面具有较佳的导电性并且为低阻抗表面，而光学膜的另一表面未作任何抗静电处理，则为高阻抗表面。

一般认为，通过设置导电性佳的抗静电层，就可以达到抗静电效果，然而，本案发明人经多次实验发现，抗静电效果并非只是降低抗静电层的阻抗值就可达到，例如，当抗静电层的表面阻抗值为460Ω/mm2时，居然还是有静电现象而造成操作人员触电，进一步检讨其原因，发现此时未作抗静电处理的高阻抗表面的阻抗值为1.92×1016Ω/mm2，与前述低阻抗表面的阻抗值的差异甚大，因此发明人进一步实验研究后发现，即使光学膜上涂布抗静电层，但是只要高、低阻抗表面的阻抗值差异过大，静电电荷仍然会储存于高阻抗表面上，造成操作人员直接以手拿取光学膜时，仍会有类似接通效果而被静电电到，进而伤害操作人员。此外，也可能日后于模组中因各膜片间的磨擦产生静电，因为膜片堆叠磨擦，类似电容效应产生电荷储存的效果，因此一侧的阻抗过低、一侧过高，会像多层电容一样储存电荷，一旦有接触就会导通放电。

所以由实务经验可知，抗静电效果并非只是涂布抗静电层就可改善，抗静电层的低阻抗表面与未作抗静电处理的高阻抗表面间的阻抗差异，也必须加以控制，但是以往却没有任何研究针对上述现象提出探讨。而本案发明人提出可以达到良好抗静电效果的最佳参数。

发明内容

本发明的目的是在提供一种具有较佳的抗静电效果的抗静电光学膜。本发明抗静电光学膜，包含：一个具有一第一阻抗值R1的基材，及一设置在该基材的表面的抗静电层，该抗静电层具有一第二阻抗值R2，且R2＜10¹³Ω/mm²，R1/R2＜10¹⁰。

本发明所述的抗静电光学膜，所述R2＜10¹²Ω/mm²。

本发明所述的抗静电光学膜，该基材包括一个基材部，所述基材部具有反向间隔的一个第一表面以及一个第二表面，该抗静电层设置在该第一表面，而该基材还包括一个设置在该第二表面并使光线偏折射出的集光部。

本发明所述的抗静电光学膜，该抗静电层包括一个设置在该基材表面的抗静电部，以及一个位于该抗静电部表面并使光线偏折射出的集光部。

本发明所述的抗静电光学膜，该抗静电层包括多个使光线偏折射出的集光结构。

本发明所述的抗静电光学膜，该抗静电层的硬度大于或等于1H。

本发明所述的抗静电光学膜，该抗静电层具有光扩散作用。