[发明专利]反式取代环己烷羧酸类、以及反式/反式二环己烷二羧酸类的制造方法

权利要求书

1、一种制造取代环己烷羧酸酰卤的方法，其中，在强酸的存在下，将反式体的比例为a％的取代环己烷羧酸的羧基转变为卤代羰基，从而制造反式体的比例为b％的取代环己烷羧酸酰卤，其中0≤a，a<b。

2、一种取代环己烷羧酸的制造方法，其特征在于，该制造方法包含以下工序：

第1工序，在该工序中，在强酸的存在下，将反式体的比例为a％的取代环己烷羧酸的羧基转变为卤代羰基，其中0≤a，和，

第2工序，在该工序中，将第1工序中得到的取代环己烷羧酸酰卤的卤代羰基水解，从而得到反式体的比例为c％的取代环己烷羧酸，其中a<c。

3、一种取代环己烷羧酸酯或取代环己烷羧酸酰胺的制造方法，其特征在于，该制造方法包含以下工序：

第1工序，在该工序中，在强酸的存在下，将反式体的比例为a％的取代环己烷羧酸的羧基转变为卤代羰基，从而得到取代环己烷羧酸酰卤，其中0≤a，和，

第2工序，在该工序中，使第1工序中得到的取代环己烷羧酸酰卤与含有羟基的化合物或含有氨基的化合物或含氮杂环化合物反应，从而得到反式体的比例为d％的取代环己烷羧酸酯或取代环己烷酰胺，其中a<d。

4、一种制造二环己烷二羧酸酰卤的方法，其中，在强酸的存在下，将二环己烷环上的1位和4位、以及1’位和4’位的立体关系中反式/反式体的比例为e％的二环己烷二羧酸的羧基转变为卤代羰基，从而制造反式/反式体的比例为f％的二环己烷二羧酸酰卤，其中0≤e，e<f。

5、一种二环己烷二羧酸的制造方法，其特征在于，该制造方法包含以下工序：

第1工序，在该工序中，在强酸的存在下，将二环己烷环上的1位和4位、以及1’位和4’位的立体关系中反式/反式体的比例为e％的二环己烷二羧酸的羧基转变为卤代羰基，其中0≤e，和，

第2工序，在该工序中，将第1工序中得到的二环己烷二羧酸酰卤的卤代羰基水解，从而得到反式/反式体的比例为g％的二环己烷二羧酸，其中e<g。

6、一种二环己烷二羧酸二酯或二环己烷二羧酸二酰胺的制造方法，其特征在于，该制造方法包含以下工序：

第1工序，在该工序中，在强酸的存在下，将二环己烷环上的1位和4位、以及1’位和4’位的立体关系中反式/反式体的比例为e％的二环己烷二羧酸的羧基转变为卤代羰基，从而得到二环己烷二羧酸酰卤，其中0≤e，和，

第2工序，在该工序中，使第1工序中得到的二环己烷二羧酸酰卤与含有羟基的化合物或含有氨基的的化合物或含氮杂环化合物反应，从而得到反式/反式体的比例为h％的二环己烷二羧酸二酯或二环己烷二羧酸二酰胺，其中e<h。

7、根据权利要求1～6中任一项所述的方法，其特征在于，卤代羰基是氯代羰基。

8、根据权利要求1～7中任一项所述的方法，其特征在于，所述强酸是硫酸或磺酸。