[发明专利]向下式基板薄型化装置及采用该装置的薄型化系统

权利要求书

1.一种向下式玻璃薄型化装置，具有：

固定部，将至少一张基板垂直固定；

喷嘴部，设置在所述基板的垂直上方，使蚀刻液沿着所述基板表面 流下；

所述喷嘴部包括：

容纳部，容纳从外部注入的蚀刻液；

导向部，将溢出所述容纳部的蚀刻液导向至所述基板的垂直上部方 向。

2.根据权利要求1所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于， 所述喷嘴部在所述基板的垂直上部侧至少设置一个，以可调节喷嘴流量 的方式形成。

3.根据权利要求1所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于， 在所述容纳部的上部面形成有一定部分开口的蚀刻液通过狭缝，在所述 通过狭缝的外侧方向，形成有将蚀刻液均匀地引向所述导向部的多个导 向槽。

4.根据权利要求1或3所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在 于，在所述容纳部的内部形成有用于防止所供给的蚀刻液的流量急速增 加的缓冲隔壁。

5.根据权利要求4所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于， 所述缓冲隔壁由形成有多个蚀刻液缓冲通孔的薄板构件构成。

6.根据权利要求1所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于， 所述导向部采用沿着垂直向下逐渐倾斜的结构，其末端以与所述基板的 上部面的垂直上部方向相对应的方式排列。

7.根据权利要求6所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于， 所述蚀刻液是选自氢氟酸类、混合酸类以及非氢氟酸类的蚀刻液的任意 一种。

8.一种向下式玻璃薄型化系统，其特征在于包括：

水洗模块，具有对至少一张基板在垂直竖立的状态下进行清洗的 水洗室；

蚀刻模块，具有对通过所述基板水洗模块的基板进行蚀刻的蚀刻 室，

所述蚀刻室在所述基板的垂直上部侧至少设置一个，具有：喷嘴 部，使蚀刻液从所述基板的垂直上部方向沿着所述基板的表面自由落 下；固定部，将至少一张基板垂直固定，

具有移动单元，使所述固定部移动以实现所述水洗模块和蚀刻模 块的内部之间的往复移动；

所述喷嘴部包括：

容纳部，容纳从外部注入的蚀刻液；

导向部，将溢出所述容纳部的蚀刻液导向至所述基板的垂直上部方 向。

9.根据权利要求8所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在于， 在所述容纳部的上部面形成有一定部分开口的蚀刻液通过狭缝，在所述 通过狭缝的外侧方向，形成有将蚀刻液均匀地引向所述导向部的多个导 向槽。

10.根据权利要求9所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在于， 在所述容纳部的内部形成有用于防止所供给的蚀刻液的流量急速增加的 缓冲隔壁。

11.根据权利要求10所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在于， 所述缓冲隔壁由形成有多个蚀刻液缓冲通孔的薄板构件构成。

12.根据权利要求9所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在于， 还具有蚀刻液循环供给单元，它包括将在所述蚀刻模块使用的蚀刻液 供向所述蚀刻室，使使用过的蚀刻液再次循环的结构。

13.根据权利要求12所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在于， 所述蚀刻液循环供给单元包括具有供给蚀刻液的蚀刻液供给泵的蚀刻 液主储存容器。

14.根据权利要求12所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在于， 具有用于回收在所述蚀刻室使用过的蚀刻液的蚀刻液回收容器。

15.根据权利要求12所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在于， 所述蚀刻液循环供给单元具有至少一个过滤部，该过滤部对在所述蚀 刻室内使用过的蚀刻液进行过滤。