[发明专利]向下式基板薄型化装置及采用该装置的薄型化系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种如下的向下式玻璃薄型化装置和一种薄型化系统： 所述装置使蚀刻液靠重力从玻璃的上部沿着玻璃表面自然地流向下 部，由此实现所期望的玻璃的蚀刻的同时，减少由作为在玻璃蚀刻之 后产生的副产物的玻璃淤渣以及颗粒所引起的划痕不良等，能够对玻 璃厚度进行超薄型化；所述系统具有蚀刻模块和水洗模块以在应用该 装置时能够在一个工序中进行水洗和蚀刻。

背景技术

最近，随着半导体、显示设备产业的发展，以及根据追求轻薄短小 的产品的消费者的要求，迫切需要发展对以附着玻璃的状态制造的显示 面板(Panel)进行薄型化的技术。即，随着设备的薄型化，要求对使用 于LCD基板等的玻璃厚度进行超薄型化，作为进行这样的薄型化的技 术，采用显示面板(Panel)的蚀刻法。熟知采用化学蚀刻法对面板进行 薄型化的现有技术，有浸泡法(Dip)、喷射法(Spray)等。

发明内容

发明所要解决的问题

然而，就这样的蚀刻方法而言，从外部喷射蚀刻液，或者浸泡在蚀 刻液中，为了进行蚀刻而必然地提供气泡，因此，在蚀刻面上出现微细 的颗粒或者划痕，因此存在难以进行精细的玻璃蚀刻以及采用玻璃蚀刻 的薄型化工序的问题。

另外，存在如下不便之处：伴随着蚀刻工序要进行蚀刻液的水洗； 在没获得精细的蚀刻时不得不再次进行蚀刻工序，因此还存在难以进行 大量操作，生产性较低的问题。

本发明是为了解决上述问题而提出的，其目的在于，提供一种如下 的向下式玻璃薄型化装置：为了除去由于蚀刻液喷射式或者浸泡及气泡 (Bubble)在蚀刻时所产生的玻璃基板的颗粒以及划痕，具有作为供给 从基板上部沿着基板面垂直自由落下的蚀刻液的供给单元的功能性喷嘴 部，由此能够明显地减少颗粒以及划痕的产生，提供高品质的玻璃，并 能够对显示面板(Panel)进行超薄型化。

本发明的另一个目的在于，提供一种能够用一个工序进行蚀刻工序 和蚀刻前后的水洗工序的向下式玻璃薄型化系统，除了对工序进行简化 外，还附加循环式蚀刻液以及水洗用水系统，由此节减制造费用。

解决问题的手段

为了解决上述问题，本发明提供了一种向下式玻璃薄型化装置，特 别是具有：固定部，至少将一张基板垂直固定；喷嘴部，设置在所述基 板的垂直上方，使蚀刻液沿着所述基板表面流下。在此，所述喷嘴部在 基板的垂直上部方向设置多个，另外，具有特有的容纳部、蚀刻液通过 狭缝以及导向部，以使从喷嘴部供给的蚀刻液溢出流动的同时沿着基板 表面进行蚀刻，而且为了防止蚀刻液过度流出而具有缓冲隔壁。

发明效果

若根据本发明，则可放弃从外部对玻璃或者液晶面板进行的喷射式 蚀刻工序，提供一种具有使蚀刻液从基板的上部流下，并靠重力沿着基 板表面进行蚀刻的喷嘴部的蚀刻装置，由此，可显著地减少颗粒和划痕 的产生，同时提供高品质的玻璃，并可对显示面板(Panel)进行超薄型 化。

另外，由于提供一种蚀刻模块和水洗模块相结合的蚀刻系统，通过 蚀刻液循环和水洗液循环可减少制造工序费用，而且，在一个工序中可 进行反复操作以获得具有完美品质的薄型化玻璃，因此可提高薄型化工 序的效率。

附图说明

图1是示出本发明的向下式基板薄型化装置结构的概略图。

图2是示出本发明的喷嘴部结构的主要部分的立体图。

图3是示出本发明的喷嘴部中缓冲隔壁的主要部分的放大图。

图4是示出适用本发明的向下式基板薄型化装置的薄型化系统的一 个实施例的结构图。

图5是示出适用本发明的向下式基板薄型化装置的薄型化系统的另 一个实施例的结构图。

图6是示出适用本发明的向下式基板薄型化装置的薄型化系统的多 种适用例的图。

具体实施方式

本发明提供一种向下式玻璃薄型化装置，具有：固定部，至少将一 张基板垂直固定；喷嘴部，设置在所述基板的垂直上方，使蚀刻液沿着 所述基板表面流下。本发明可消除在对将要进行蚀刻的基板，即玻璃或 者液晶面板进行蚀刻时产生的颗粒或者淤渣等缺陷，因此能够提供一种 高品质的经过薄型化的基板。