[发明专利]保护层及其制备方法和含该保护层的等离子体显示面板

说明书

技术领域

本发明涉及一种等离子体显示面板的保护层，制备该保护层的方法，和 包括该保护层的等离子体显示面板，并且更具体地，涉及一种包含含镁氧化 物层的保护层，该保护层含有使具有镁空位杂质中心(VIC)的含镁氧化物 颗粒附着到其上的表面，一种制备该保护层的方法，及包含该保护层的等离 子体显示面板(PDP)。在其表面具有镁氧化物颗粒的该保护层几乎不被等 离子体的离子损伤且具有极好的电子发射性能，并因此包含该保护层的PDP 具有高稳定性。

背景技术

等离子体显示面板(PDP)是易于被制成大尺寸、且具有良好的显示性 能和快速响应时间的自发射器件。PDP也可以制成薄的，类似于LCD，并 因而适合用于墙壁显示器。

图1是PDP像素部分的垂直截面图。参照图1，维持电极(sustain electrode)15形成于前基板14的内表面上，其中每个维持电极15均包含透 明电极15a和由金属制成的汇流电极(bus electrode)15b。第一电介质层16 形成于维持电极15上。当第一电介质层16直接暴露于放电空间时，放电性 能将会退化并且持续时间(lifetime)将会减小。因此，保护层17在第一电 介质层16上形成。

同时，寻址电极(address electrode)11在第二基板10上形成，且寻址 电极11被第二电介质层12覆盖。第一基板14和第二基板10彼此面对，且 彼此分隔开预定距离。隔垫肋(barrierrib)19插设在第一基板14和第二基 板10之间限定放电单元。磷光体层13在放电单元中形成。产生紫外线的气 态混合物被填充到放电单元中。气态混合物可以是Ne和Xe的混合物，或 是在预定压力例如450 Torr下的He、Ne和Xe的气体混合物，其中Xe产生 真空紫外线(VUV)(Xe离子：147nm的原子射线；以及Xe₂：173nm的分 子射线)，Ne降低并稳定初始放电电压，He增加Xe的迁移率并增加173nm 的Xe分子射线的发射。

通常，PDP的保护层执行以下三种功能。

首先，保护层保护电极和电介质层。即使当仅使用电极或电介质层和电 极时也会发生放电。当仅使用电极时，可能难以控制放电电流。当仅使用电 介质层和电极时，可能会发生由于溅射而对电介质层的破坏。因此电介质层 必须用抗等离子体离子的保护层涂覆。

其次，保护层降低初始放电电压。初始放电电压与组成抗等离子体离子 的保护层的材料的二次电子发射系数直接相关。当更多的二次电子从保护层 发出时，初始放电电压降低。在这点上，优选是使用具有高二次电子发射系 数的材料制备保护层。

最后，保护层减少放电延迟时间。放电延迟时间表示在施加电压后需要 用于启始放电所需的时间。放电延迟时间是生成延迟时间(formation delay time)Tf和统计延迟时间(statistic delay time)Ts之和。生成延迟时间Tf 是施加电压的时间和产生放电电流的时间之间的时间间隔，统计延迟时间Ts 是生成延迟时间的统计分布。放电延迟时间Tf越短，对于单一扫描方法来 说寻址完成的越快。此外，更短的放电延迟时间Tf可以减少扫描驱动成本， 增加子场(sub field)的数目，提高亮度和图像品质。

PDP的传统保护层可以通过在基板上沉积单晶镁氧化物或是多晶镁氧 化物来形成(参考KR 2005-0073531)。然而，含有这种传统保护层的PDP 具有高的工作电压、高的功率消耗，和长的放电延迟时间，并因而传统的保 护层对于使用单一扫描方法的HD PDP是不合适的。因此，需要开发拥有改 进特性的保护层。

发明内容

本发明提供一种可以有效地防止由等离子体离子引起的损害且具有极 好地电子发射效应的保护层，制备该保护层的方法，以及包含该保护层的等 离子体显示面板(PDP)。

根据本发明的一方面，提供了用于PDP的保护层，保护层包含含镁氧 化物层，以及在含镁氧化物层上形成的含镁氧化物颗粒。含镁氧化物颗粒具 有镁空位杂质中心(VIC)。