[发明专利]结合物理气相沉积及电着沉积的制作方法无效
申请号: | 200810187341.9 | 申请日: | 2008-12-26 |
公开(公告)号: | CN101760740A | 公开(公告)日: | 2010-06-30 |
发明(设计)人: | 庄欣颖 | 申请(专利权)人: | 及成企业股份有限公司 |
主分类号: | C23C28/00 | 分类号: | C23C28/00;C23C14/34;C25D13/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁挥;张燕华 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 结合 物理 沉积 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种镀着制作方法,尤其涉及一种结合物理气相沉积及电着沉 积的制作方法。
背景技术
以往可供选用的电子产品的外观,几乎都大同小异或仅是单纯几何形状的 简单变化,并无法吸引消费者的购买欲望,但随着绘图软件的不断提升及模具 的日益精进,在昔日认为不能制出的曲面造型或复杂形状,皆逐一的被克服且 不断的有新产品被推出市场,且获得消费者普遍性的青睐与好评;然而,此等 电子产品的外观形状固然重要,但是若能加上颜色的搭配,则其产品可说是立 于不败的地位;因此,如何对此等电子产品进行表面的镀着处理,则是本发明 所要解决的课题。
现有用于电子产品的表面处理方式有喷漆、印刷、涂装、镀着、蒸着等相 当繁多,其中在物理气相沉积(PVD及电着沉积(ED Coating)亦经常被采用,此 物理气相沉积所形成的镀膜虽然具有较佳的耐磨耗等特性,但对于非平面状的 板体、壳体、不规则曲面或复杂形状时,其在侧板及各板面的相接处所形成的 镀膜相当的稀疏,不仅造成抗磨耗效果不佳,更严重的影响到产品的美观性, 且以物理气相沉积方式来进行镀膜时,因受到环境温度及涂料特性的限制,其 对于颜色的变化较为鲜少,而不符合阶段性的产品镀膜需求。另,电着沉积虽 然具有较多的颜色变化等特性,但是其在耐磨耗等方面却是不甚理想;着实有 待加以改善。
发明内容
本发明的一目的,在于提供一种结合物理气相沉积及电着沉积的制作方 法,其是可在被镀物基材上形成一复合式均匀镀膜。
为了达到上述的目的,本发明提供一种结合物理气相沉积及电着沉积的制 作方法,其步骤包括:
a)提供一被镀物基材;
b)在该被镀物基材的一表面以一物理气相沉积形成有一碳化层;
c)在该碳化层表面再以另一物理气相沉积形成有一导电层;及
d)在该导电层表面以一电着沉积形成有一外表层。
为了达到上述的目的,本发明提供另一种结合物理气相沉积及电着沉积的 制作方法,其步骤包括:
a)提供一被镀物基材;
b)在该被镀物基材的一表面以一物理气相沉积形成有一导电层;及
c)在该导电层表面以一电着沉积形成有一外表层。
本发明对照现有技术具有以下功效,对于非平面状被镀物基材,由电着沉 积方式所形成的外表层,不仅可有效地改善物理气相沉积所造成的镀膜不均现 象,进而提升产品遮瑕效果;更可利用此电着沉积在被镀物基材外表面制作出 各种不同颜色,而增加颜色的变化性及整体的美观性;由于在电着沉积时各板 面的接合处聚集有较多的电子,可在前述的接合处的位置形成有较厚的镀膜, 以有效解决物理气相沉积所存在镀膜稀疏问题。以下结合附图和具体实施例对 本发明进行详细描述,但不作为对本发明的限定。
附图说明
图1为本发明的方法的制作流程图;
图2为本发明应用于手机前盖的立体外观图;
图3为图2的剖视放大图;
图4为本发明的另一实施方法制作流程图;
图5为本发明的另一实施方法应用于手机前盖的剖视放大图。
其中,附图标记
被镀物基材10
外表面11 内表面12
碳化层20
导电层30
外表层40
具体实施方式
有关本发明的详细说明及技术内容,配合图式说明如下,然而所附图式仅 提供参考与说明用,并非用来对本发明加以限制。
请参阅图1、图2及图3所示,分别为本发明的制作流程图、应用于手机 前盖的立体外观图及图2的剖视放大图,本发明提供一种结合物理气相沉积及 电着沉积的制作方法,其步骤包括:
a)提供一被镀物基材10(如图2所示);在此步骤中,被镀物基材10可为 导电体或非导电体的材料所制成,本实施例的被镀物基材10为一手机前盖, 其具有一外表面11及一内表面12。
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