[发明专利]电光器件基片、电光器件、电子器件和投影显示设备有效
申请号: | 200810190325.5 | 申请日: | 1998-06-16 |
公开(公告)号: | CN101477991A | 公开(公告)日: | 2009-07-08 |
发明(设计)人: | 平林幸哉 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;G02F1/1362 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘宗杰;王小衡 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电光 器件 电子器件 投影 显示 设备 | ||
1.一种电光器件基片,其在把对应各像素的开关元件设置在基片上的像素区中,具有多个夹层绝缘膜和多个导电层交替层积的层积膜结构,在该多个导电层中的顶导电层下面至少一个所述夹层绝缘膜通过抛光处理变平,其特征在于:
在所述像素区的周边上形成的密封区具有单个或多个层的模型图形,该模型图形至少由经过所述抛光处理的夹层绝缘膜下面的所述导电层构成,
所述模型图形至少形成在与所述开关元件连接的控制导线层的相同的层中形成的孤立图形上。
2.一种电光器件基片,其在把对应各像素的开关元件设置在基片上的像素区中,具有多个夹层绝缘膜和多个导电层交替层积的层积膜结构,在该多个导电层中的顶导电层下面至少一个所述夹层绝缘膜通过抛光处理变平,其特征在于:
在所述像素区的周边形成的密封区外的周边区域具有单个或多个层的模型图形,所述模型图形至少由经过所述抛光处理的夹层绝缘膜下面的所述导电层构成,
所述模型图形至少形成在与所述开关元件连接的控制导线层的相同的层中形成的孤立图形上。
3.一种电光器件基片,其在基片上具有像素区和非像素区,在所述像素区具有多个夹层绝缘膜和多个导电层交替层积的层积膜结构,在该多个导电层中的顶导电层下面至少一个所述夹层绝缘膜通过抛光处理变平,其特征在于:
在所述像素区的周边形成的密封区具有单个或多个层的模型图形,所述模型图形由经过所述抛光处理的夹层绝缘膜下面的所述导电层构成,
在所述密封区的角部分,设置所述模型图形。
4.一种电光器件,其特征在于,在权利要求1至3中任一项所述的电光器件基片和与其相对的透明基片之间夹持电光材料。
5.一种电子器件,其特征在于,使用权利要求4中所述的电光器件作为显示器件。
6.一种投影显示设备,其特征在于,使用权利要求4中所述的电光器件作为光阀。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的