[发明专利]电光器件基片、电光器件、电子器件和投影显示设备

说明书

本申请是下述申请的分案申请：

发明名称：电光器件基片、电光器件、电子器件和投影显示设备

申请日：1998年6月16日

申请号：200310113109.8

技术领域

本发明涉及一种用于电光器件的基片，如反射液晶板基片，特别是涉及一种包括像素区的电光器件基片，该像素区形成在用于选择像素的元件区上。

背景技术

如以下所述，本申请人在1966年10月22日申请的日本专利申请No.8-279388中披露了液晶板基片、液晶板和投影显示设备的结构。如图17所示，采用反射液晶板作为光阀的投影显示设备(液晶投影器)包括：沿系统光轴L₀放置的光源110；包括集成透镜120和极化光转换器130的极化光照明单元100；用于借助S极化光反射面201，反射由极化光照明单元100发射的S极化光束的极化光束分束器200；分光镜412，用于从被极化光束分束器200的S极化光反射面201反射的光中分离出蓝光分量(B)；用于调制分离的蓝光分量(B)的反射液晶光阀300B；分光镜413，用于借助分光镜412分离蓝光之后，通过反射从光束中分离出红光分量(R)；用于调制分离的红光分量(R)的反射液晶光阀300R；用于调制通过分光镜413的剩余绿光分量(G)的反射液晶光阀300G；包括用于将合成的光投影到屏幕600上的投影透镜的投影光学系统500，其中在三个反射液晶光阀300R、300G和300B中调制的光分量在它们的回程路径中通过分光镜413、412和极化光束分束器200被合成。如图18中以剖视图示出的反射液晶板30被用作反射液晶光阀300R、300G和300B。

反射液晶板30包括用胶粘剂固定在由玻璃或陶瓷构成的支承基片32上的反射液晶板基片31；玻璃基片35，该基片带有由透明导电(ITO)膜构成的对电极(公共电极)33，位于入射光一侧，并与反射液晶板基片31相对有一间隙，该基片31被由密封体36构成的框架所封闭；以及公知的扭曲向列(TN)液晶或超垂直排列(super homeotropic)(SH)液晶37，在其中液晶分子在不加电压的状态下垂直排列，液晶被密封在反射液晶板基片31和玻璃基片35之间由密封体36所封闭的空间中。

图19是反射液晶板30中使用的反射液晶板基片31的放大的布局平面图。反射液晶板基片31包括带有像素电极的矩形像素区(显示区)20，该像素电极如图18所示设置成矩阵14；位于像素区20的右侧和左侧外部的栅线驱动器电路(Y驱动器)22R和22L，用于扫描栅线(扫描电极或线电极)；位于像素电极14的上侧外部的预充电/测试电路23，用于数据线(信号电极或列电极)；位于像素电极14底侧外部的图象信号采样电路24，用于根据图象数据给数据线提供图象信号；具有框架形状的密封区27，位于栅线驱动器22R和22L、预充电/测试电路23和图象信号采样电路24的外部，用于放置密封体36；沿底端排列，并借助其间的各向异性导电膜(ACF)38与软带导线39(flexibletape wiring)相连的多个接线端焊盘26；位于接线端焊盘阵列26和密封区27之间的数据线驱动器电路(X驱动器)21，用于根据图象数据给数据线提供图象信号；位于数据线驱动器电路21两端旁边的中继接线端焊盘(所谓的银点(siver point))29R和29L，用于给在玻璃基片35上的对电极33供电。

位于密封区27内部的外围电路(栅线驱动器电路22R和22L，预充电/测试电路23和图象信号采样电路24)具有隔离膜25(参考图18)，以便屏蔽入射光，该隔离膜25与最顶层的像素电极14是一样的。

图20是反射液晶板基片31的像素区20的局部放大平面图，图21是沿图20中的A-A’线所作的剖视图。在图21中，数字1表示具有20mm的边的单晶硅P^--半导体基片(N^--半导体基片也可以)。数字2表示在半导体基片1的器件形成区(MOSFET等)中的上表面(主表面)上形成的P型阱区，数字3表示场氧化膜(所谓的LOCOS)，它是为在半导体基片1的非元件形成区中隔离器件而形成的。图21所示的P型阱区2形成为像素区20的公用阱区，并与用于制造外围电路(栅线驱动器电路22R和22L，预充电/测试电路23，图象信号采样电路24和数据线驱动器21)的器件的P型阱区2’(参考图22)隔离开，其中像素区20设有例如768×1024的尺寸的像素矩阵。