[发明专利]工作台系统、包括这种工作台系统的光刻设备及校正方法有效
申请号: | 200810191143.X | 申请日: | 2008-11-20 |
公开(公告)号: | CN101487979A | 公开(公告)日: | 2009-07-22 |
发明(设计)人: | W·H·G·A·考恩;E·J·M·尤森;E·A·F·范德帕斯卡 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 王波波 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 工作台 系统 包括 这种 光刻 设备 校正 方法 | ||
1.一种工作台系统,包括:
可移动工作台;和
测量所述可移动工作台的位置的位置测量系统,所述位置测量系统包 括:
4个相邻定位的参考板;
4个传感器,其中依据所述可移动工作台相对于所述参考板的位 置,所述4个传感器的至少一个子集被配置成与所述参考板协作,以提 供分别代表各个传感器相对于所述参考板的位置的各个传感器信号;和
设置用来从所述传感器信号确定工作台位置的处理器,所述处理器 被配置成当所述工作台处于这样一个位置时,即在该位置上,由与所述 参考板协作操作的所述传感器的所述至少一个子集提供超过确定用数 目的传感器信号,(a)从所述超过确定用数目的传感器信号的子集确定 所述工作台位置,并且(b)由所述确定了的工作台位置与剩余的传感 器信号之间的偏差,校正一个或多个传感器的传感器信号;
所述处理器被设置用来确定所述校正至少两次,其中每一次,所述可 移动工作台相对于所述参考板都处于不同的位置,所述处理器被设置用来 从所述处于不同位置的确定了的校正之间的差,确定对所述参考板的膨胀 的估计。
2.依照权利要求1的工作台系统,其中所述处理器被设置用来由所述 偏差校正所述4个传感器中剩余的传感器的每个传感器信号。
3.依照权利要求1的工作台系统,其中所述处理器被设置用来由所述 偏差校正所述超过确定用数目的传感器信号的子集的传感器信号。
4.依照权利要求1的工作台系统,其中所述处理器被设置用来通过使 用所述可移动工作台的几何模型、确定所述确定了的工作台位置与所述剩 余传感器信号之间的关系、并从该关系得出所述校正,而由所述偏差校正 所述4个传感器中的一个或多个,其中所述几何模型存储在所述处理器的 存储器内。
5.依照权利要求1的工作台系统,其中所述可移动工作台是光刻设备 的衬底台。
6.依照权利要求1的工作台系统,其中所述可移动工作台是光刻设备 的图案形成装置工作台。
7.一种光刻设备,包括:
照射系统,其被配置成调整辐射束;
图案形成装置支撑结构,其被构造成支撑图案形成装置,所述图案形 成装置能够给辐射束在横截面内赋予图案以形成图案化的辐射束;
衬底支撑结构,其被构造成保持衬底;以及
投影系统,其被配置成将图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分 上,其中
所述支撑结构中的一个包括一种工作台系统,该工作台系统包括:
可移动工作台;和
测量所述可移动工作台的位置的位置测量系统,所述位置测量系统 包括:
4个相邻定位的参考板;
4个传感器,其中依据所述可移动工作台相对于所述参考板的 位置,所述4个传感器的至少一个子集被配置成与所述参考板协 作,以提供分别代表各个传感器相对于所述参考板的位置的各个传 感器信号;和
设置用来从所述传感器信号确定工作台位置的处理器,所述处 理器被配置成当所述工作台处于这样一个位置时,即在该位置上, 由与所述参考板协作操作的所述传感器的所述至少一个子集提供 超过确定用数目的传感器信号,(a)从所述超过确定用数目的传感 器信号的子集确定所述工作台位置,并且(b)由所述确定了的工 作台位置与剩余的传感器信号之间的偏差,校正一个或多个传感器 的传感器信号;
所述处理器被设置用来确定所述校正至少两次,其中每一次, 所述可移动工作台相对于所述参考板都处于不同的位置,所述处理 器被设置用来从所述处于不同位置的确定了的校正之间的差,确定 对所述参考板的膨胀的估计。
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