[发明专利]工作台系统、包括这种工作台系统的光刻设备及校正方法

说明书

技术领域

本发明涉及工作台系统、包括这种工作台系统的光刻设备、以及在 双工作台区光刻设备中校正位置测量系统的校正方法。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分 上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这 种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版(reticle)的图案形成装置用于 生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案成像到衬底(例 如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯) 上。通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材 料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的 相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进 机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部 分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描” 方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述 衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬 底的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。

为了能够测量衬底台(也称作衬底工作台)的位置，光刻设备内可 以设置测量系统。同样，还可以设置位置测量系统来测量掩模台或图案 形成装置支撑结构(也称作掩模台)的位置，该掩模台或图案形成装置 支撑结构设置用来保持图案形成装置或掩模。对于这样的位置测量系统， 可以利用很多测量原理，诸如干涉仪、编码器等。在这样的测量系统中， 可以使用基准板，如编码器板。由此，测量系统的传感器可以连接在工 作台上，从而传感器随着工作台移动并跟随工作台的位置，同时传感器 被设置用来实施测量，因此，从该测量可以确定传感器相对于基准板的 位置或位移或距离信息。在这些解决方案中，可以在工作台上设置多个 传感器，例如设置在工作台的各个边缘、各个侧面上。根据工作台相对 于基准板中某个基准板的位置，传感器的一个子集可能是有效的，这是 由于在一些位置处，一个或多个传感器可能位于所讨论的基准板的有效 范围外，或者传感器的子集可能位于相邻基准板之间的范围内，等等。 因此，依据工作台相对于基准板的位置，可以使用传感器的不同子集来 确定工作台的位置。同时，由于干扰形成的多种原因，用传感器得到的 位置测量可能不一致。举例来说，这样的传感器相对于工作台的位置可 能会受到容差、温度漂移等的影响，一个或多个板的位置可能会受到漂 移或其他干扰的影响，板本身可能会受到像热膨胀等这类波动的影响。

因为这些干扰，传感器的读出会出现不一致。而由于这样的不一致， 可能会看到几种现象。举例来说，假设给出带有4个传感器的工作台， 在第一位置，传感器1-3被用来测量工作台的位置，在第二位置，传感 器1、2和4被用来测量工作台的位置，同时传感器4出现一定漂移。那 么，用传感器1-3获得的第一位置的位置确定可能与用传感器1、2和4 获得的位置确定不一致，这样会引起控制系统(如反馈控制系统)控制 工作台的位置，以基于从(部分)传感器确定的位置校正工作台的位置， 从而使第二位置处的工作台用这样的反馈操作不同地校正，结果导致偏 移、旋转等，换句话说，导致第二位置处的工作台位置相对于第一位置 处的工作台位置失配。结果，可能出现偏移误差、对准误差、重叠误差 等。

发明内容

因此，期望改善工作台的工作台位置测量精度。

根据本发明的一个实施例，提供一种工作台系统，其包括：可移动 工作台；和测量所述工作台的位置的位置测量系统。所述位置测量系统 包括参考板；多个传感器，其中依据所述工作台相对于所述参考板的位 置，所述传感器的至少一个子集被配置成与所述参考板协作，提供各个 传感器相对于所述参考板的位置的各个传感器信号；和设置用来从所述 传感器信号确定工作台位置的处理器，其中在由与所述参考板协作操作 的所述传感器的所述至少一个子集提供超过确定用数目的传感器信号的 位置，所述处理器被配置成从所述超过确定用数目的传感器信号的子集 确定所述工作台位置，并且由所述确定了的工作台位置与剩余的传感器 信号之间的偏差，校正其中一个或多个传感器的传感器信号。