[发明专利]去除晶圆正面胶粘残渣的方法有效
申请号: | 200810201822.0 | 申请日: | 2008-10-27 |
公开(公告)号: | CN101728228A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 许顺富;傅俊;赖海长;陆志卿 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/30;H01L21/306;B08B3/00;B08B3/08;B08B3/02 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 20120*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 去除 正面 胶粘 残渣 方法 | ||
1.一种去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于包括下列步骤:
S10:将晶圆送至第一腔室并使用ACT940溶液进行第一设定时间的清洗;
S20:将晶圆送至第二腔室并使用氮甲基吡咯烷酮溶液进行第二设定时间的清洗,以清洗晶圆上的ACT940溶液;
S30:将晶圆送至第三腔室进行快速倾卸冲洗,以清洗晶圆上的氮甲基吡咯烷酮溶液;
S40:将晶圆送至第四腔室进行第三设定时间的干燥处理。
2.根据权利要求1所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于所述晶圆正面胶粘残渣为晶圆背面研磨时粘贴在晶圆正面的保护膜。
3.根据权利要求1所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于所述ACT940溶液的浓度为90%~100%,温度为60摄氏度~80摄氏度。
4.根据权利要求1所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于所述第一设定时间为45分钟~75分钟。
5.根据权利要求1所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于所述氮甲基吡咯烷酮溶液的浓度为100%,温度为26摄氏度~28摄氏度。
6.根据权利要求1所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于所述第二设定时间为5分钟~15分钟。
7.根据权利要求1所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于所述快速倾卸冲洗步骤包括首先使用去离子水喷射冲洗,接着使用丙醇溶液清洗并排出清洗液,最后使用氮气吹干并进行加热烘干处理。
8.根据权利要求1所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于所述干燥处理步骤使用60摄氏度~80摄氏度的热氮气以及浓度为4%的气态丙醇把晶圆吹干。
9.根据权利要求1所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于所述第三设定时间为10分钟~20分钟。
10.根据权利要求1所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于每次移动晶圆之前都将晶圆移动臂进行去离子水冲洗5~6秒并进行干燥处理。
11.一种去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于包括下列步骤:
S100:将晶圆送至第一ACT940溶液腔室进行第一清洗设定时间的清洗;
S200:将晶圆送至第二ACT940溶液腔室进行第二清洗设定时间的清洗;
S300:将晶圆送至氮甲基吡咯烷酮溶液腔室进行第三清洗设定时间的清洗,以清洗晶圆上的ACT940溶液;
S400:将晶圆送至快速倾卸冲洗腔室进行清洗,以清洗晶圆上的氮甲基吡咯烷酮溶液;
S500:将晶圆送至烘干腔室进行烘干设定时间的干燥处理。
12.根据权利要求11所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于所述晶圆正面胶粘残渣为晶圆背面研磨时粘贴在晶圆正面的保护膜。
13.根据权利要求11所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于所述ACT940溶液的浓度为90%~100%,温度为60摄氏度~80摄氏度。
14.根据权利要求11所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于所述第一清洗设定时间和所述第二清洗设定时间相同且皆为25分钟~40分钟。
15.根据权利要求11所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于所述氮甲基吡咯烷酮溶液的浓度为100%,温度为26摄氏度~28摄氏度。
16.根据权利要求11所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于所述第三清洗设定时间为5分钟~15分钟。
17.根据权利要求11所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于所述快速倾卸冲洗步骤包括首先使用去离子水喷射冲洗,接着使用丙醇溶液清洗并排出清洗液,最后使用氮气吹干并进行加热烘干处理。
18.根据权利要求11所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于所述干燥处理步骤使用60摄氏度~80摄氏度的热氮气以及浓度为4%的气态丙醇把晶圆吹干。
19.根据权利要求11所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于所述烘干设定时间为10分钟~20分钟。
20.根据权利要求11所述的去除晶圆正面胶粘残渣的方法,其特征在于每次移动晶圆之前都将晶圆移动臂进行去离子水冲洗5~6秒并进行干燥处理。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造