[发明专利]掩模对准系统及其方法有效
申请号: | 200810203806.5 | 申请日: | 2008-12-01 |
公开(公告)号: | CN101424885A | 公开(公告)日: | 2009-05-06 |
发明(设计)人: | 唐文力;王海江;涂泽恩;宋海军;李运锋 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人: | 屈 蘅;李时云 |
地址: | 201203上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 对准 系统 及其 方法 | ||
1.一种基于电光调制光源的掩模对准系统,包括发出对准光束的光源以及具有掩模对准标记的掩模板,其特征在于,还包括:
电光调制模块,光源发出的对准光束垂直穿过上述电光调制模块,且上述电光调制模块利用调制信号将上述对准光束调制为具有特定频率的调制光束,上述调制光束透过上述掩模对准标记;
信号接收控制单元,接收透过上述掩模对准标记的调制光束,并控制上述掩模板的位置和姿态。
2.根据权利要求1所述的掩模对准系统,其特征在于其中的光源为激光二极管。
3.根据权利要求1所述的掩模对准系统,其特征在于其中上述掩模对准标记透光,而上述掩模对准标记周围不透光。
4.根据权利要求1所述的掩模对准系统,其特征在于其中上述电光调制模块包括:起偏器、电光晶体、λ/4波片以及检偏器,其中上述电光晶体设置于上述起偏器和上述检偏器之间,上述起偏器偏振方向和上述电光晶体的X轴平行,上述检偏器偏振方向和上述电光晶体的Y轴平行,上述λ/4波片设置于上述电光晶体和上述检偏器之间。
5.根据权利要求1所述的掩模对准系统,其特征在于其中上述信号接收控制单元包括:
光电传感器,感测上述调制光束的强度,且上述光电传感器发出一感测信号;
信号采集调理解调模块,电性连接上述光电传感器,采集并解调上述感测信号;
信号处理模块,电性连接上述信号采集调理解调模块,且上述信号处理模块对上述感测信号进行处理,并输出一控制信号;以及
掩模板运动控制模块,电性连接上述信号处理模块,接收上述控制信号并控制上述掩模板的位置和姿态。
6.根据权利要求5所述的掩模对准系统,其特征在于其中上述光电传感器为四象限探测器。
7.根据权利要求5所述的掩模对准系统,其特征在于其中上述感测信号为电流信号。
8.根据权利要求5所述的掩模对准系统,其特征在于其中上述信号采集调理解调模块包括:
电流转电压单元;
模拟带通滤波及信号放大单元,电性连接上述电流转电压单元;
信号解调单元,电性连接上述模拟带通滤波及信号放大单元;
滤波单元,电性连接上述信号解调单元,以及
归一化单元,电性连接上述滤波单元。
9.根据权利要求8所述的掩模对准系统,其特征在于其中上述归一化单元包括一减法器和两个加法器,其中上述减法器分别电性连接上述两个加法器。
10.根据权利要求5所述的掩模对准系统,其特征在于其中上述信号处理模块包括模拟数字转换器和上位机,其中上述上位机电性连接上述模拟数字转换器。
11.根据权利要求10所述的掩模对准系统,其特征在于其中上述上位机包括一数据寄存器。
12.根据权利要求5所述的掩模对准系统,其特征在于其中上述掩模板运动控制模块包括
掩模板夹持装置,夹持上述掩模板;以及
掩模板运动控制传动系统,控制上述掩模板夹持装置的移动。
13.根据权利要求12所述的掩模对准系统,其特征在于其中上述掩模板运动控制传动系统包括x向精密丝杠及导轨,y向精密丝杠及导轨,z向升降平台,Rz向转台,x向绝对值编码器,y向绝对值编码器,x、y、z、Rz向驱动电机及其驱动器,以及运动控制器,其中,上述运动控制器分别电性连接上述x向绝对值编码器、上述y向绝对值编码器、上述x、y、Z、Rz向驱动电机驱动器。
14.一种基于电光调制光源的掩模对准方法,其特征在于,包含:
将光源发出的对准光束光电调制为具有特定频率的调制光束;
提供一掩模板,上述掩模板包含掩模对准标记,上述调制光束透过上述掩模对准标记;以及
依据上述调制光束在四象限传感器上能量分布大小来控制上述掩模板的位置和姿态。
15.根据权利要求14所述的掩模对准方法,其特征在于其中上述光源为激光二极管。
16.根据权利要求14所述的掩模对准方法,其特征在于其中上述掩模对准标记为透明的,且对准标记是对称结构。
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