[发明专利]掩模对准系统及其方法

说明书

技术领域

本发明是有关于一种掩模对准系统及其方法，其特别是有关于一种基于电光调制光源的掩模对准系统及其方法。

背景技术

现在半导体光刻领域，进入纳米光刻时代，光刻系统变得越来越复杂，对掩模对准的精度要求越来越高。

传统的掩模对准技术是基于四象限传感器对称性，利用发光二极管(LED)光源(或者激光器光源)照射到掩模标记上，通过标记下面的四象限传感器来接收从掩模对准标记上透过的光能量大小来判断掩模板相对于四象限中心位置，并根据该判断对掩模板的位置进行调整，以达到掩模对准的目的。但是传统的掩模对准方法只能实现点对点的对准。针对这个情况，“掩模传输四象限对准装置”(中国专利，申请号：200510105260.6)利用四象限传感器的对中性，根据传感器接收到信号的大小来控制掩模机械手运动来达到调整掩模板位置，达到对准的目的。但是，由于对准装置中存在电机等其它大功率电器设备，以及滤光片未能滤除杂散光的影响，导致对准信号中存在严重的噪声。若信号处理得不好，就难以获得理想的对准精度，甚至出现反复对准而无法获得确切对准位置的死循环情况。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基于电光调制解光源的掩模对准系统及其方法，以改善现有技术的缺失。

本发明提出一种基于电光调制光源的掩模对准系统，掩模对准系统包括光源、电光调制模块、掩模板、信号接收控制单元。

光源发出一对准光束，对准光束垂直穿过电光调制模块，且电光调制模块将对准光束调制为具有特定频率的调制光束；掩模板包含掩模对准标记，调制光束透过掩模对准标记；信号接收控制单元，接收上述调制光束，并控制上述掩模板的位置和姿态。

本发明另提出一种基于电光调制光源的掩模对准方法，包含下列步骤：将光源发出的对准光束光电调制为具有特定频率的调制光束；提供掩模板，且掩模板包含掩模对准标记，调制光束透过掩模对准标记；以及依据调制光束控制掩模板的位置和姿态。

本发明的基于电光调制光源的掩模对准系统是利用电光调制单元对光源进行特定频率的调制，大大提高信号源信噪比，提高信号的抗干扰性。从而保证信号采集系统可以在相对复杂的条件下所获取的数据的可靠性，能够真实准确的反映原始信号间的固有关系。此外，由于采集到的数据相对可靠，可以快速提取出准确有效的对准信号，使对准次数减少，提高系统工作效率，同时，由于信号信噪比获得较大提高，对准精度也可以得到很大提高。

为让本发明的上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合附图，作详细说明如下。

附图说明

图1所示为根据本发明一实施例的基于电光调制光源的掩模对准系统的示意图。

图2所示为图1中基于电光调制光源的掩模对准系统的电光调制模块的示意图。

图3所示为图1中基于电光调制光源的掩模对准系统的调制信号波形图。

图4采用图1中基于电光调制光源的掩模对准系统的调制光束波形图。

图5所示为图1中基于电光调制光源的掩模对准系统的信号采集调理解调模块的示意图。

图6所示为图1中基于电光调制光源的掩模对准系统的信号解调单元的示意图。

图7所示为根据本发明一实施例的基于电光调制光源的掩模对准方法的流程图。

图8所示为根据本发明一实施例的基于电光调制光源的掩模对准方法中依据调制光束控制掩模板的位置和姿态的步骤的具体流程示意图。

具体实施方式

图1所示为根据本发明一实施例的基于电光调制光源的掩模对准系统的示意图。

如图1所示，基于电光调制光源的掩模对准系统1包括两个光源11a，11b、两个电光调制模块12a，12b、掩模板13、两个光电传感器14a，14b、信号采集调理解调模块15、信号处理模块16、以及掩模板运动控制模块17。